本实用新型涉及硬化膜技术领域，尤其是一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜。
背景技术：
在智能手机发展普及的时代，玻璃材质因为其光学性能优异，强度以及表面硬度高，被广泛应用于手机盖板材料。随着3d玻璃的技术成熟，玻璃盖板延续到固定曲率的曲面屏手机。而到了折叠机发展的时代，玻璃盖板已经不能满足可折叠手机的要求，目前行业内广泛应用无色聚酰亚胺(colorlesspolyimide，cpi)材料作为折叠手机的必备材料。
不过cpi材料并不是完美无缺的解决方案，可折叠手机盖板必须要达到高透光率、低雾度、耐刮耐摩擦、柔软性能要好，但是cpi材料防刮擦能力较差，容易出现划痕，同时抗冲击保护能力比较差，对于外力冲击不能起到良好的保护作用。
除了cpi材料，聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)也可以作为折叠手机的硬化膜材料，但是，一般的pet因为硬度差、模量低而难以直接应用在折叠机上。
技术实现要素：
本实用新型要解决的技术问题是：为了提供一种适用于折叠机的硬化膜，本实用新型提供了一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，该硬化膜在基材层上涂覆高韧性硬化层和高耐磨硬化层之后，使得基材的耐磨性和韧性显著提高，可同时满足折叠手机对于耐磨性和弯折性能的要求。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：
一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，包括基材层、高韧性硬化层和高耐磨硬化层，所述高耐磨硬化层为硬化膜的表层。
具体地，上述高韧性硬化层和高耐磨硬化层分别位于基材层的两侧。
具体地，上述基材层为pet薄膜或cpi薄膜，厚度为25-200μm，动态弯折次数不低于50k次。
具体地，上述基材层的厚度为50-100μm，动态弯折次数不低于150k次。
具体地，上述高韧性硬化层与高耐磨硬化层的厚度相等。
具体地，上述高韧性硬化层和高耐磨硬化层的硬度均不低于hb，断裂伸长率均不低于1％，光学透过率均不低于86％，雾度均不高于1.5％，yi值均不高于2，厚度均为2-50μm。
具体地，上述高韧性硬化层和高耐磨硬化层的硬度均不低于h，断裂伸长率均不低于2.5％，光学透过率均不低于90％，雾度均不高于1％，yi值均不高于1.5，厚度均为2-20μm。
具体地，上述硬化膜的铅笔硬度不低于2h，断裂伸长率不低于1％，光学透过率不低于88％，雾度不高于1.5％，yi值不高于2。
具体地，上述硬化膜的铅笔硬度不低于3h，断裂伸长率不低于2.5％，光学透过率不低于90％，雾度不高于1％，yi值不高于1.5。
具体地，上述表层的初始水滴角不低于100°。
本实用新型的有益效果是：
(1)本实用新型在基材层上涂覆高韧性硬化层和高耐磨硬化层之后，使得基材的耐磨性和韧性显著提高，可同时满足折叠手机对于耐磨性和弯折性能的要求；
(2)本实用新型的高韧性硬化层和高耐磨硬化层分别涂覆于基材的两侧，在保证高耐磨和高韧性的同时，可以最大限度地降低硬化膜的翘曲，两侧涂层达到拉力平衡，有效避免了硬化膜的翘曲问题，而且，高耐磨硬化层位于表层，保证使用过程中的耐磨性，高韧性硬化层位于内侧，在进行弯折时，内侧受力更集中，更容易出现折痕、裂纹等，将高韧性硬化层置于基材层内侧，可以有效地保护基材层，提高整个硬化膜的耐弯折性能；
(3)本实用新型对于高韧性硬化层和高耐磨硬化层分别提出了性能要求，以此确保整体硬化膜的性能满足折叠手机对于耐磨性和弯折性能的要求。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜的结构示意图；
图中：1.基材层；2.高韧性硬化层；3.高耐磨硬化层。
具体实施方式
现在结合附图对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明本实用新型的基本结构，因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，如图1所示，包括基材层1、高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3，高耐磨硬化层3为硬化膜的表层。在基材层1上涂覆高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3之后，使得基材的耐磨性和韧性显著提高，可同时满足折叠手机对于耐磨性和弯折性能的要求。
在一种具体的实施方式中，如图1所示，高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3分别位于基材层1的两侧。高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3分别涂覆于基材层1的两侧，在保证高耐磨和高韧性的同时，可以最大限度地降低硬化膜的翘曲，两侧涂层达到拉力平衡，有效避免了硬化膜的翘曲问题，而且，高耐磨硬化层3位于表层，保证使用过程中的耐磨性，高韧性硬化层2位于内侧，在进行弯折时，内侧受力更集中，更容易出现折痕、裂纹等，将高韧性硬化2层置于基材层内侧，可以有效地保护基材层，提高整个硬化膜的耐弯折性能；
在一种具体的实施方式中，基材层1为pet薄膜或cpi薄膜，厚度为25-200μm，动态弯折次数不低于50k次。
在实际生产过程中，由于pet具有比cpi更好的光学性能，且具有更低的价格，有利于满足消费者高性能和低价格的要求，可以考虑主要选择pet作为基材。
在一种具体的实施方式中，基材层1的厚度为50-100μm，动态弯折次数不低于150k次。
在一种具体的实施方式中，高韧性硬化层2与高耐磨硬化层3的厚度相等。两层厚度相等，可以使两侧涂层达到拉力平衡，最大限度地降低硬化膜的翘曲。
在一种具体的实施方式中，高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3的硬度均不低于hb，断裂伸长率均不低于1％，光学透过率均不低于86％，雾度均不高于1.5％，yi值均不高于2，厚度均为2-50μm。
在一种具体的实施方式中，高韧性硬化层2和高耐磨硬化层3的硬度均不低于h，断裂伸长率均不低于2.5％，光学透过率均不低于90％，雾度均不高于1％，yi值均不高于1.5，厚度均为2-20μm。
在一种具体的实施方式中，硬化膜的铅笔硬度不低于2h，断裂伸长率不低于1％，光学透过率不低于88％，雾度不高于1.5％，yi值不高于2。
在一种具体的实施方式中，硬化膜的铅笔硬度不低于3h，断裂伸长率不低于2.5％，光学透过率不低于90％，雾度不高于1％，yi值不高于1.5。
在一种具体的实施方式中，表层的初始水滴角不低于100°。
以上述依据本实用新型的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项实用新型技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改。本项实用新型的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。
1.一种耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：包括基材层（1）、高韧性硬化层（2）和高耐磨硬化层（3），所述高耐磨硬化层（3）为硬化膜的表层。
2.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层（2）和高耐磨硬化层（3）分别位于基材层（1）的两侧。
3.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述基材层（1）为pet薄膜或cpi薄膜，厚度为25-200μm，动态弯折次数不低于50k次。
4.如权利要求3所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述基材层（1）的厚度为50-100μm，动态弯折次数不低于150k次。
5.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层（2）与高耐磨硬化层（3）的厚度相等。
6.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层（2）和高耐磨硬化层（3）的硬度均不低于hb，断裂伸长率均不低于1%，光学透过率均不低于86%，雾度均不高于1.5%，yi值均不高于2，厚度均为2-50μm。
7.如权利要求6所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述高韧性硬化层（2）和高耐磨硬化层（3）的硬度均不低于h，断裂伸长率均不低于2.5%，光学透过率均不低于90%，雾度均不高于1%，yi值均不高于1.5，厚度均为2-20μm。
8.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述硬化膜的铅笔硬度不低于2h，断裂伸长率不低于1%，光学透过率不低于88%，雾度不高于1.5%，yi值不高于2。
9.如权利要求8所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述硬化膜的铅笔硬度不低于3h，断裂伸长率不低于2.5%，光学透过率不低于90%，雾度不高于1%，yi值不高于1.5。
10.如权利要求1所述的耐弯折高硬度高耐磨聚酯硬化膜，其特征在于：所述表层的初始水滴角不低于100°。
技术总结