半导体存储装置的制作方法

专利2025-06-15  11


实施方式涉及一种半导体存储装置。


背景技术:

1、已知有存储单元呈三维状排列的nand(not and,与非)型闪存。


技术实现思路

1、实施方式提供一种抑制了周边电路元件的不良的半导体存储装置。

2、实施方式的半导体存储装置包括:半导体衬底;控制电路,配置在所述半导体衬底上;存储单元阵列,配置在所述控制电路的上方,且具有呈三维配置的多个存储单元,由所述控制电路所控制;第1氮化物层,配置在所述控制电路与所述存储单元阵列之间;以及第2氮化物层,配置在所述控制电路与所述第1氮化物层之间。



技术特征:

1.一种半导体存储装置,具备:

2.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

3.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

4.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

5.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

6.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

7.根据权利要求1所述的半导体存储装置,其中

8.一种半导体存储装置,具备:

9.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中

10.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中

11.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中

12.根据权利要求8所述的半导体存储装置,其中

13.一种半导体存储装置,具备:

14.根据权利要求13所述的半导体存储装置,其中

15.根据权利要求13所述的半导体存储装置,其中

16.根据权利要求13所述的半导体存储装置,其中

17.根据权利要求13所述的半导体存储装置,其中

18.一种半导体存储装置,具备:

19.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

20.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

21.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

22.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

23.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

24.根据权利要求18所述的半导体存储装置,其中

25.一种半导体存储装置,具备:

26.根据权利要求25所述的半导体存储装置,其中

27.根据权利要求25所述的半导体存储装置,其中

28.根据权利要求25所述的半导体存储装置,其中

29.根据权利要求25所述的半导体存储装置,其中

30.一种半导体存储装置,具备:

31.根据权利要求30所述的半导体存储装置,其中

32.根据权利要求30所述的半导体存储装置,其中

33.根据权利要求30所述的半导体存储装置,其中

34.根据权利要求30所述的半导体存储装置,其中


技术总结
实施方式提供一种抑制了周边电路元件的不良的半导体存储装置。实施方式的半导体存储装置(1)包括:半导体衬底(21);控制电路(Tr),配置在所述半导体衬底上;存储单元阵列(100),配置在所述控制电路的上方,且具有呈三维配置的多个存储单元,由所述控制电路所控制;第1氮化物层(32),配置在所述控制电路与所述存储单元阵列之间;以及第2氮化物层(31),配置在所述控制电路与所述第1氮化物层之间。

技术研发人员:蒋京珉
受保护的技术使用者:铠侠股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/12/17
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