本发明涉及用于成膜装置的基板保持装置、成膜装置以及电子器件的制造方法。
背景技术：
1、近年来，作为监视器、电视、智能手机等的显示画面，使用有机el显示装置等平板显示装置。有机el显示装置的面板具有在两个相对的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有进行发光的有机物层的结构。在使用成膜装置形成有机el显示面板时，通过配置在成膜装置的腔室中的基板支架保持基板的周缘部，对设置在腔室下部的蒸发源进行加热而放出金属或有机物的蒸镀材料，经由掩模蒸镀在基板的下表面上。
2、在此，周缘部被保持的基板的中央部有时会因自重而产生挠曲。随着基板尺寸的大型化，上述中央部的挠曲也变得更大，对蒸镀精度的影响也变大。作为用于减轻这样的基板的挠曲的方法，在专利文献1中，提出了使用静电吸盘(esc：electrostatic chuck)来保持基板的技术。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利文献1：日本特开2019-099910号公报
6、发明要解决的课题
7、在成膜室内，蒸发源的温度非常高，在成膜室内的其他部件和蒸发源之间存在较大的温度差。因此，难以控制静电吸盘或基板、掩模的温度，它们有时会因热膨胀而产生变形、尺寸变化。由于该尺寸变化的影响，有可能产生对准精度的降低、膜质的降低。
技术实现思路
1、本发明的目的在于提供一种能够在成膜装置中稳定地进行温度控制的技术。
2、用于解决课题的手段
3、为了解决上述课题，本发明的基板保持装置用于在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述基板保持装置具备：
4、静电吸盘，所述静电吸盘吸附基板；以及
5、温度调节管，用于进行所述静电吸盘的温度调节的温度调节介质在所述温度调节管的内部流动，
6、所述静电吸盘具有温度调节管设置部，所述温度调节管设置部以所述温度调节管的至少一部分埋设在所述静电吸盘的内部的方式设置所述温度调节管。
7、另外，为了解决上述课题，本发明的基板保持装置用于在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述基板保持装置具备：
8、静电吸盘，所述静电吸盘吸附基板；
9、温度调节管，用于进行所述静电吸盘的温度调节的温度调节介质在所述温度调节管的内部流动；以及
10、温度调节管设置部件，所述温度调节管设置部件固定于所述静电吸盘的与吸附基板的吸附面相反的一侧的面，所述温度调节管的至少一部分埋设在所述温度调节管设置部件的内部。
11、发明效果
12、根据本发明，能够在成膜装置中稳定地进行温度控制。
1.一种基板保持装置，用于在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述基板保持装置具备：
2.如权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
3.如权利要求2所述的基板保持装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的基板保持装置，其特征在于，
5.如权利要求2所述的基板保持装置，其特征在于，
6.如权利要求1所述的基板保持装置，其特征在于，
7.一种基板保持装置，用于在基板上进行成膜的成膜装置，其特征在于，所述基板保持装置具备：
8.如权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
9.如权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
10.如权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
11.如权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
12.如权利要求7所述的基板保持装置，其特征在于，
13.如权利要求6或12所述的基板保持装置，其特征在于，
14.如权利要求1或7所述的基板保持装置，其特征在于，
15.如权利要求1或7所述的基板保持装置，其特征在于，
16.如权利要求15所述的基板保持装置，其特征在于，
17.如权利要求1或7所述的基板保持装置，其特征在于，
18.如权利要求1或7所述的基板保持装置，其特征在于，
19.一种成膜装置，其特征在于，所述成膜装置具备：
20.一种电子器件的制造方法，其特征在于，
