本发明涉及显示面板制造，特别涉及oled喷墨打印基板真空高温烘烤设备及其烘烤方法。
背景技术：
1、喷墨打印是oled（organic light emitting diode，有机发光二极管）显示板制造领域的关键技术，oled喷墨打印的基板经过低温真空干燥成膜后，还需要进行高温烘烤以去除墨水中的高沸点溶剂，确保喷墨打印后的基板完全固化成膜。
2、目前oled喷墨打印后的高温烘烤在大气或者氮气中进行，气体分子的存在使得烘烤设备中加热板散热速度快，加热效率不高。同时加热板也存在温度均匀性不好的问题，其边缘散热更快，使得加热板中间温度高，边缘温度低，这种情况在高温烘烤喷墨打印基板时，导致玻璃基板中间温度高边缘温度低，玻璃基板温度不均，最后致使喷墨打印基板成膜厚度不均，影响产品质量。因此加热板温度均匀性问题急需改进。
技术实现思路
1、本发明旨在改善背景技术中的至少一个技术问题。
2、第一方面，本发明提供一种真空烘烤设备，包括：
3、真空室，所述真空室上设有可封闭的产品进出口；
4、真空机构，所述真空机构用于使所述真空室形成真空环境，减少烘烤过程中的热量散失；
5、加热板，所述加热板位于真空室内；
6、热量围墙，所述热量围墙安装在加热板四周，与所述加热板共同形成向上敞开的盒式结构，所述热量围墙内设有加热体。
7、本发明的第一方面的一种真空烘烤设备的有益效果：通过在设备真空室中形成真空环境，同时在加热板四周安装热量围墙，热量围墙内还设有加热体，可以弥补烘烤过程中加热板的热量散失，提高了加热板的温度均匀性。
8、进一步的，所述真空烘烤设备还包括承载平台和支撑柱，所述承载平台和支撑柱均位于真空室内，所述承载平台通过支撑柱支撑加热板，使承载平台与所述加热板互不贴合。
9、通过采用以上技术方案，可以减少加热板与承载平台的直接接触，从而减少了加热板的热量直接向承载平台传导。
10、进一步的，所述真空烘烤设备还包括升降模组，所述升降模组带动承载平台上升或下降，所述承载平台上升至热量围墙上表面与真空室上壁的下表面接触时，所述真空室上壁、热量围墙和加热板之间形成密闭空间。
11、通过采用以上技术方案，承载平台升起后热量可以聚集在所形成的密闭空间内，进一步减少了加热板四周的热量散失。
12、进一步的，所述升降模组包括第一导轨、第一滑块、第二导轨、第二滑块、驱动电机、第一齿轮组、第二齿轮组和传动轴，所述第一导轨和第二导轨分别位于产品进出口敞口方向的左侧和右侧，所述第一导轨和第二导轨均与真空室固接，所述第一导轨和第二导轨上均设有齿条，所述驱动电机通过第一齿轮组与带动第一滑块沿第一导轨滑动，所述第一齿轮组与第二齿轮组通过传动轴传动连接，通过第二齿轮组带动第二滑块沿第二导轨滑动。
13、通过采用以上技术方案，能确保在驱动电机驱动时，第一滑块和第二滑块同步上升或下降。
14、进一步的，所述第一滑块和第二滑块底部之间连接有底板，所述底板两侧均设有向上延伸的竖直导杆，所述竖直导杆上均设有波纹管，所述波纹管上均套有支撑件，所述承载平台安装在所述支撑件上。
15、通过采用以上技术方案，波纹管具有高强度、耐腐蚀、耐温度变化等优点，在承受压力的同时有一定的弹性，能够使得搭载的承载平台升降更加平稳。
16、进一步的，所述真空机构包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵和第二真空泵均通过真空管道与真空室连接，所述第一真空泵用于使所述真空室形成真空环境，所述第二真空泵用于抽出烘烤过程中真空室内产生的挥发溶剂。
17、通过采用以上技术方案，可以收集oled基板在高温烘烤时挥发的有毒墨水溶剂，收集的有毒气体在后续处理，使该设备产生的有毒气体不影响周围设备环境及人员。
18、进一步的，所述真空室的数量为两个以上，所述真空室均与真空机构连接。
19、通过采用以上技术方案，该设备可以同时烘烤多块oled基板，从而提高工作效率。
20、第二方面，本发明提供一种真空烘烤设备的烘烤方法，包括如下步骤：
21、将oled基板置入真空室的加热板上，真空室内安装有热量围墙，热量围墙环绕加热板设置，热量围墙位于加热板的上方，热量围墙内设有加热体；
22、真空室形成密封空间后抽真空；
23、真空室经抽真空形成真空环境后，加热板开始加热，热量围墙内加热体加热，开始真空烘烤，将oled基板升温至指定温度；
24、烘烤完成，真空室恢复至常压。
25、本发明的第二方面的一种真空烘烤设备的烘烤方法的有益技术效果：通过采用真空烘烤的方法，可以减少加热板产生的热量传导，同时热量围墙环绕加热板设置，可以减少加热板四周的热量散失，提高加热板的温度均匀性。
26、进一步的，在将oled基板升温至指定温度后，升起加热板以及热量围墙使热量围墙的顶侧与真空室的内壁接触，并形成密闭空间，对oled基板进行保温后，烘烤完成。
27、通过采用以上技术方案，加热板以及热量围墙升起形成的密闭空间可以聚集热量，可以进一步减少加热板的热量散失。
28、进一步的，在将oled基板完成保温后，抽出真空室内挥发溶剂。
29、通过采用以上技术方案，抽出烘烤过程中产生的有害气体并做后续处理，防止该烘烤方法对周围环境产生污染。
1.一种真空烘烤设备，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述真空烘烤设备还包括承载平台和支撑柱，所述承载平台和支撑柱均位于真空室内，所述承载平台通过支撑柱支撑加热板，使承载平台与所述加热板互不贴合。
3.根据权利要求1所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述真空烘烤设备还包括升降模组，所述升降模组带动承载平台上升或下降，所述承载平台上升至热量围墙上表面与真空室上壁的下表面接触时，所述真空室上壁、热量围墙和加热板之间形成密闭空间。
4.根据权利要求3所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述升降模组包括第一导轨、第一滑块、第二导轨、第二滑块、驱动电机、第一齿轮组、第二齿轮组和传动轴，所述第一导轨和第二导轨分别位于产品进出口敞口方向的左侧和右侧，所述第一导轨和第二导轨均与真空室固接，所述第一导轨和第二导轨上均设有齿条，所述驱动电机通过第一齿轮组与带动第一滑块沿第一导轨滑动，所述第一齿轮组与第二齿轮组通过传动轴传动连接，通过第二齿轮组带动第二滑块沿第二导轨滑动。
5.根据权利要求4所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述第一滑块和第二滑块底部之间连接有底板，所述底板两侧均设有向上延伸的竖直导杆，所述竖直导杆上均设有波纹管，所述波纹管上均套有支撑件，所述承载平台安装在所述支撑件上。
6.根据权利要求1所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述真空机构包括第一真空泵和第二真空泵，所述第一真空泵和第二真空泵均通过真空管道与真空室连接，所述第一真空泵用于使所述真空室形成真空环境，所述第二真空泵用于抽出烘烤过程中真空室内产生的挥发溶剂。
7.根据权利要求1所述的真空烘烤设备，其特征在于，所述真空室的数量为两个以上，所述真空室均与真空机构连接。
8.一种真空烘烤设备的烘烤方法，其特征在于，包括如下步骤：
9.根据权利要求8所述的真空烘烤设备的烘烤方法，其特征在于，在将oled基板升温至指定温度后，升起加热板以及热量围墙使热量围墙的顶侧与真空室的内壁接触，并形成密闭空间，对oled基板进行保温后，烘烤完成。
10.根据权利要求9所述的真空烘烤设备的烘烤方法，其特征在于，在将oled基板完成保温后，抽出真空室内挥发溶剂。
