本实用新型涉及二极管技术领域，具体为用于高压硅堆的除尘机构。
背景技术：
高压硅堆又叫硅柱，它是一种硅高频高压整流二极管，工作电压在几千伏至几万伏之间，常用于黑白电视机或其他电子仪器中作高频高压整流，它之所以能有如此高的耐压本领，是因为它的内部是由若干个硅高频二极管的管心串联起来组合而成的，外面用高频陶瓷进行封装，现有的陶瓷封装，封装后不便于安装、拆卸和运输，同时空气中的杂质容易对芯片电路的腐蚀而造成电气性能下降。
技术实现要素：
针对现有技术的不足，本实用新型提供了用于高压硅堆的除尘机构，现有的陶瓷封装，封装后不便于安装、拆卸和运输，同时空气中的杂质容易对芯片电路的腐蚀而造成电气性能下降。
本实用新型提供如下技术方案：用于高压硅堆的除尘机构，包括支架，所述支架的上表面活动连接有幕布，所述支架的内部固定连接有壳体，所述壳体的上表面固定连接有密封盖，所述密封盖的上表面固定连接有密封环，所述密封环的内壁嵌入设置有阳极，所述阳极的右侧固定连接有阴极，所述支架的右侧面固定连接有固定块，所述密封盖的下表面固定连接有凸起块，所述壳体的上表面开设槽有凹槽一，所述壳体的内部固定连接有晶片，所述支架的内部固定连接有固定架，所述固定架的内部嵌入设置有转轴，所述转轴的外壁固定连接有滚筒，所述支架的左侧面开设槽有凹槽二，所述幕布的左侧面固定连接有磁石。
优选的，所述支架设置有两块，右侧支架的左侧面设置有凹槽二，左侧支架的右侧面设置有凹槽二，两个凹槽二的长度和宽度相等。
优选的，所述支架的宽度小于固定块的宽度，固定块设置有两块，与支架的左右侧面固定连接，固定块的上表面活动连接有壳体。
优选的，所述凹槽二的高度大于密封盖的厚度，密封盖的长度小于凹槽二的长度。
优选的，所述凸起块呈长方形固定连接密封盖的下表面，凹槽一的宽度大于凸起块的宽度，凸起块与凹槽一卡接。
优选的，所述幕布的尾端与滚筒固定连接，幕布的开头突出支架的上表面。
优选的，所述支架设置有两块，右侧支架的内部设置有固定架，上表面贯穿设置有卡槽。
与现有技术对比，本实用新型具备以下有益效果：
1、该用于高压硅堆的除尘机构，通过滚筒外壁的幕布，幕布的长度大于密封盖的宽度，拉动幕布时，幕布在滚筒上转动延长幕布的长度，覆盖在密封盖的上表面将密封盖覆盖，防止空气中的杂质粉尘堆积。
2、该用于高压硅堆的除尘机构，通过密封盖上表面的密封环，密封环设置有两个，阴极和阳极贯穿密封盖产生缝隙，密封环的内壁与阴极和阳极的外壁紧密贴合防止空气中的杂质和粉尘进入密封盖与阴极阳极之间的缝隙。
3、该用于高压硅堆的除尘机构，通过密封盖下表面的凸起块，凸起块的宽度小于凹槽一的宽度，密封盖与壳体紧密贴合时，凸起块卡接在凹槽一的内部，方便壳体的拆卸和密封。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型的壳体内部结构示意图；
图3为本实用新型的支架内部结构示意图；
图中：1、支架；2、幕布；3、壳体；4、密封盖；5、密封环；6、阳极；7、阴极；8、固定块；9、凸起块；10、凹槽一；11、晶片；12、固定架；13、转轴；14、滚筒；15、凹槽二；16、磁石。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，用于高压硅堆的除尘机构，包括支架1，支架1的上表面活动连接有幕布2，支架1的内部固定连接有壳体3，壳体3的上表面固定连接有密封盖4，密封盖4的上表面固定连接有密封环5，密封环5的内壁嵌入设置有阳极6，阳极6的右侧固定连接有阴极7，支架1的右侧面固定连接有固定块8，支架1的宽度小于固定块8的宽度，固定块8设置有两块，与支架1的左右侧面固定连接，固定块8的上表面活动连接有壳体3，密封盖4的下表面固定连接有凸起块9，壳体3的上表面开设槽有凹槽一10，凸起块9呈长方形固定连接密封盖4的下表面，凹槽一10的宽度大于凸起块9的宽度，凸起块9与凹槽一10卡接，壳体3的内部固定连接有晶片11，支架1的内部固定连接有固定架12，支架1设置有两块，右侧支架1的内部设置有固定架12，上表面贯穿设置有卡槽，固定架12的内部嵌入设置有转轴13，转轴13的外壁固定连接有滚筒14，幕布2的尾端与滚筒14固定连接，幕布2的开头突出支架1的上表面，支架1的左侧面开设槽有凹槽二15，支架1设置有两块，右侧支架1的左侧面设置有凹槽二15，左侧支架1的右侧面设置有凹槽二15，两个凹槽二15的长度和宽度相等,用于卡接密封盖4，凹槽二15的高度大于密封盖4的厚度，密封盖4的长度小于凹槽二15的长度，幕布2的左侧面固定连接有磁石16。
工作时，首先将晶片11放入壳体3的内部，然后拿起密封盖4将密封盖4下表面的凸起块9对准，壳体3内部的凹槽一10，向下按动密封盖4将密封盖4下表面的凸起块9与凹槽一10卡接，晶片11上表面的阳极6和阴极7突出密封盖4的上表面，阳极6和阴极7的外壁套接在两个密封环5的内壁，与两个密封环5紧密贴合，壳体3密封后，将壳体3的下表面放置在两块固定块8的上表面，将密封盖4对准两块支架1左右侧面的凹槽二15，向前推动壳体3，壳体3推动带动与壳体3固定连接的密封盖4与凹槽二15卡接，壳体3的下表面在固定块8的上表面滑行，壳体3固定好后拉动幕布2，幕布2连接滚筒14，幕布2拉动带动滚筒14转动，滚筒14转动将围绕滚筒14的幕布2抽出，延长幕布2的长度，幕布2拉长覆盖密封盖4，用于遮挡粉尘，幕布2下表面的磁石16与左侧支架1的左侧面贴合用于固定。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
1.用于高压硅堆的除尘机构，包括支架(1)，其特征在于：所述支架(1)的上表面活动连接有幕布(2)，所述支架(1)的内部固定连接有壳体(3)，所述壳体(3)的上表面固定连接有密封盖(4)，所述密封盖(4)的上表面固定连接有密封环(5)，所述密封环(5)的内壁嵌入设置有阳极(6)，所述阳极(6)的右侧固定连接有阴极(7)，所述支架(1)的右侧面固定连接有固定块(8)，所述密封盖(4)的下表面固定连接有凸起块(9)，所述壳体(3)的上表面开设槽有凹槽一(10)，所述壳体(3)的内部固定连接有晶片(11)，所述支架(1)的内部固定连接有固定架(12)，所述固定架(12)的内部嵌入设置有转轴(13)，所述转轴(13)的外壁固定连接有滚筒(14)，所述支架(1)的左侧面开设槽有凹槽二(15)，所述幕布(2)的左侧面固定连接有磁石(16)。
2.根据权利要求1所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述支架(1)设置有两块，右侧支架(1)的左侧面设置有凹槽二(15)，左侧支架(1)的右侧面设置有凹槽二(15)，两个凹槽二(15)的长度和宽度相等。
3.根据权利要求2所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述支架(1)的宽度小于固定块(8)的宽度，固定块(8)设置有两块，与支架(1)的左右侧面固定连接，固定块(8)的上表面活动连接有壳体(3)。
4.根据权利要求1所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述凹槽二(15)的高度大于密封盖(4)的厚度，密封盖(4)的长度小于凹槽二(15)的长度。
5.根据权利要求1所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述凸起块(9)呈长方形固定连接密封盖(4)的下表面，凹槽一(10)的宽度大于凸起块(9)的宽度，凸起块(9)与凹槽一(10)卡接。
6.根据权利要求1所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述幕布(2)的尾端与滚筒(14)固定连接，幕布(2)的开头突出支架(1)的上表面。
7.根据权利要求1所述的用于高压硅堆的除尘机构，其特征在于：所述支架(1)设置有两块，右侧支架(1)的内部设置有固定架(12)，上表面贯穿设置有卡槽。
技术总结