本实用新型设涉及物理除膜装置技术领域，特别涉及一种高压水刀物理除膜装置。
背景技术：
在半导体制程中，必须定期或不定期地对半导体制程设备的零件进行清洗及再生，以维持半导体制程设备的效能，并可延长设备的使用寿命。清洗的工艺包括有高压水刀冲洗，采用高压水刀对半导体制程设备中的遮覆板上的金属镀层进行冲洗，以防金属镀膜在后续的生产过程中破裂或剥落，产生的微尘粒子散布至设备内影响良率。而现有的用于遮覆板的高压冲洗物理除膜装置，其包括有一组喷头组件，该喷头组件使用三轴滑轨机械手或scara机械手进行移动，在清洗时先清洗遮覆板的一个面，随后由人工停机翻转板块并继续清洗另一个面，这将导致高压清洗的过程中，遮覆板由于正反面压力不均变形，在后续的工艺中需要对遮覆板进行反变形修复，消耗时间，影响工作效率。因此，需要对现有的用于遮覆板的高压冲洗物理除膜装置进行改进，以解决上述问题。
技术实现要素：
本实用新型的目的就在于提供一种高压水刀物理除膜装置，以解决上述问题。
本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的：
一种高压水刀物理除膜装置，包括外壳、高压水泵、三轴滑轨副、高压喷洗组件、工件夹持支架；所述外壳从上到下依次设有三层，其中包括上层和下层的滑轨层，以及中层的冲洗层，所述冲洗层内设有格栅安装网格；下层的所述滑轨层底部外接有排水管；所述三轴滑轨副设有两组，并分别设置于上下层不同的所述滑轨层内；所述高压水泵设置于所述外壳外侧的腔室内；所述高压喷洗组件设置于所述三轴滑轨副上，并与所述高压水泵相连接，通过两组所述三轴滑轨副的联合移动，同时冲洗工件的正反面；所述工件夹持支架设置于所述格栅安装网格之间，用于夹持工件。
进一步的，所述冲洗层为可开启腔门，其上设有可视化透明窗口。
进一步的，所述三轴滑轨副包括x轴滑轨副、y轴滑轨副、z轴滑轨副。
进一步的，所述x轴滑轨副包括x轴滑轨、x轴滑块、x轴电机；所述x轴滑轨设置于所述滑轨层的内侧；所述x轴滑块与所述x轴滑轨滑动连接；所述x轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述x轴滑块驱动连接。
进一步的，所述y轴滑轨副包括y轴滑轨、y轴滑块、y轴电机；所述y轴滑轨设置于所述x轴滑块上；所述y轴滑块与所述y轴滑轨滑动连接；所述y轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述y轴滑块驱动连接。
进一步的，所述z轴滑轨副包括z轴背板、z轴气缸、z轴滑动块；所述z轴背板设置于所述y轴滑块上；所述z轴气缸设置于所述z轴背板前端；所述z轴滑动块与所述z轴气缸的输出端滑动连接；所述高压喷洗组件设置于所述z轴滑动块上。
进一步的，所述高压喷洗组件由主水管、高压喷头组成；所述主水管设置于所述三轴滑轨副上；所述高压喷头阵列设置于所述主水管上。
进一步的，所述工件夹持支架设有若干对，其上设有插入部、锁紧部；所述插入部与所述格栅安装网格对应契合；所述锁紧部为阵列排列的通孔。
本实用新型的有益效果在于，工作效率高，节省人工成本；本实用新型通过设置了上下两组的三轴滑轨副，在清洗时能够对工件的正反面进行平行冲洗，平衡了工件受到的压力，一次清洗时间能同时洗正反两面，提升了工作效率，避免工件局部受压不平衡造成变形，省去了后期变形修复的工序，节省了人工成本。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型隐藏外壳后的局部结构示意图；
图3为本实用新型中三轴滑轨副的结构示意图；
图4为本实用新型中工件夹持支架的结构示意图。
10、外壳；11、滑轨层；12、冲洗层；13、格栅安装网格；14、排水管；15、可开启腔门；16、可视化透明窗口；20、三轴滑轨副；21、x轴滑轨；22、x轴滑块；23、x轴电机；24、y轴滑轨；25、y轴滑块；26、y轴电机；27、z轴背板；28、z轴气缸；29、z轴滑动块；30、高压喷洗组件；31、主水管；32、高压喷头；40、工件夹持支架；41、插入部；42、锁紧部。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本实用新型的具体实施方式做详细的说明。需说明的是，本实用新型附图均采用简化的形式并均使用非精准的比列，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
如图1～图4所示，一种高压水刀物理除膜装置，包括外壳10、高压水泵、三轴滑轨副20、高压喷洗组件30、工件夹持支架40；
所述外壳10从上到下依次设有三层，其中包括上层和下层的滑轨层11，以及中层的冲洗层12，所述冲洗层12内设有格栅安装网格13；下层的所述滑轨层11底部外接有排水管14；所述冲洗层12为可开启腔门15，其上设有可视化透明窗口16；
所述高压水泵(图中未标示)设置于所述外壳10外侧的腔室内，其外接有自来水管；
所述三轴滑轨副20设有两组，并分别设置于上下层不同的所述滑轨层11内；其包括x轴滑轨副、y轴滑轨副、z轴滑轨副；所述x轴滑轨21副包括x轴滑轨21、x轴滑块22、x轴电机23；所述x轴滑轨21设置于所述滑轨层11的内侧；所述x轴滑块22与所述x轴滑轨21滑动连接；所述x轴电机23设置于所述外壳10外侧，并通过皮带与所述x轴滑块22驱动连接；所述y轴滑轨副包括y轴滑轨24、y轴滑块25、y轴电机26；所述y轴滑轨24设置于所述x轴滑块22上；所述y轴滑块25与所述y轴滑轨24滑动连接；所述y轴电机26设置于所述外壳10外侧，并通过皮带与所述y轴滑块25驱动连接；所述z轴滑轨副包括z轴背板27、z轴气缸28、z轴滑动块29；所述z轴背板27设置于所述y轴滑块25上；所述z轴气缸28设置于所述z轴背板27前端；所述z轴滑动块29与所述z轴气缸28的输出端滑动连接；所述高压喷洗组件30设置于所述z轴滑动块29上；所述高压喷洗组件30设置于所述z轴滑动块29上；
所述高压喷洗组件30设置于所述三轴滑轨副20上，并与所述高压水泵相连接，通过两组所述三轴滑轨副20的联合移动，同时冲洗工件的正反面；所述高压喷洗组件30由主水管31、高压喷头32组成；所述主水管31设置于所述三轴滑轨副20上；所述高压喷头32阵列设置于所述主水管31上；
所述工件夹持支架40设置于所述格栅安装网格13之间，用于夹持工件；所述工件夹持支架40设有若干对，其上设有插入部41、锁紧部42，其内壁面设有橡胶面；所述插入部41与所述格栅安装网格13对应契合；所述锁紧部42为阵列排列的通孔。
工作原理：首先，根据工件的形状，在本装置的电脑系统中设定冲洗程序，本实施例中的清洗工件为竖直的遮覆板，首先打开可开启腔门15，将工件夹持支架40放置于格栅安装网格13中，并将工件放置于工件夹持支架40之间，通过往锁紧部42拧上蝶形螺栓对工件进行夹紧，随后关闭可开启腔门15，启动清洗程序；高压喷洗组件30跟随上、下两组三轴滑轨副20对工件的正反面进行平行冲洗，冲洗后的液体随着排水管14排出设备外，清洗结束后由工作人员打开腔门取出工件。
本实用新型通过设置了上下两组的三轴滑轨副20，在清洗时能够对工件的正反面进行平行冲洗，平衡了工件受到的压力，一次清洗时间能同时洗正反两面，提升了工作效率，避免工件局部受压不平衡造成变形，省去了后期变形修复的工序，节省了人工成本。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其效物界定。
1.一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：包括外壳、高压水泵、三轴滑轨副、高压喷洗组件、工件夹持支架；所述外壳从上到下依次设有三层，其中包括上层和下层的滑轨层，以及中层的冲洗层，所述冲洗层内设有格栅安装网格；下层的所述滑轨层底部外接有排水管；所述三轴滑轨副设有两组，并分别设置于上下层不同的所述滑轨层内；所述高压水泵设置于所述外壳外侧的腔室内；所述高压喷洗组件设置于所述三轴滑轨副上，并与所述高压水泵相连接，通过两组所述三轴滑轨副的联合移动，同时冲洗工件的正反面；所述工件夹持支架设置于所述格栅安装网格之间，用于夹持工件。
2.根据权利要求1所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述冲洗层为可开启腔门，其上设有可视化透明窗口。
3.根据权利要求1所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述三轴滑轨副包括x轴滑轨副、y轴滑轨副、z轴滑轨副。
4.根据权利要求3所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述x轴滑轨副包括x轴滑轨、x轴滑块、x轴电机；所述x轴滑轨设置于所述滑轨层的内侧；所述x轴滑块与所述x轴滑轨滑动连接；所述x轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述x轴滑块驱动连接。
5.根据权利要求4所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述y轴滑轨副包括y轴滑轨、y轴滑块、y轴电机；所述y轴滑轨设置于所述x轴滑块上；所述y轴滑块与所述y轴滑轨滑动连接；所述y轴电机设置于所述外壳外侧，并通过皮带与所述y轴滑块驱动连接。
6.根据权利要求5所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述z轴滑轨副包括z轴背板、z轴气缸、z轴滑动块；所述z轴背板设置于所述y轴滑块上；所述z轴气缸设置于所述z轴背板前端；所述z轴滑动块与所述z轴气缸的输出端滑动连接；所述高压喷洗组件设置于所述z轴滑动块上。
7.根据权利要求1所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述高压喷洗组件由主水管、高压喷头组成；所述主水管设置于所述三轴滑轨副上；所述高压喷头阵列设置于所述主水管上。
8.根据权利要求1所述的一种高压水刀物理除膜装置，其特征在于：所述工件夹持支架设有若干对，其上设有插入部、锁紧部；所述插入部与所述格栅安装网格对应契合；所述锁紧部为阵列排列的通孔。
技术总结