一种镀膜均匀的真空镀膜装置的制作方法

专利2023-06-16  79


本实用新型涉及镀膜领域领域,具体涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。



背景技术:

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,使其蒸发并凝结于镀件金属、半导体或绝缘体表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

目前,常用的真空镀膜设备有真空镀膜仪。但是,现有的真空镀膜仪在镀膜时存在缺陷,比如:

1、易造成镀膜不均匀;2。镀膜时,不易回收镀膜液等物质,易造成浪费。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题是一种能够解决上述问题的镀膜均匀的真空镀膜装置。

本实用新型是通过以下技术方案来实现的:一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括镀膜仪,镀膜仪内设置有密封的镀膜腔,其特征在于:镀膜腔的腔底中心设置有凸起部,凸起部上设置有中心凹槽,中心内固定有转动组件,转动组件上固定有支撑板,支撑板遮挡住凸起部,支撑板上设置有置物槽,支撑板和镀膜腔的侧面形成有空隙,支撑板上设置有多个漏液孔,漏液孔内设置有密封块,密封块上形成有漏液通道;镀膜腔的内壁固定有多块刮板,刮板延伸至镀膜腔的上端;镀膜腔的底部贴合有隔离膜,隔离膜的中心处设置有吸水块。

作为优选的技术方案,镀膜腔的腔底为圆形结构。

作为优选的技术方案,镀膜仪的一侧安装固定有连接管,连接管连接有真空泵,真空泵的出气端安装固定有排气管,连接管和镀膜仪的连接处固定有密封圈;镀膜仪的一侧设置有观察窗口,观察窗口内密封固定有透明板。

作为优选的技术方案,转动组件包括安装固定有在中心凹槽内的电机支架,电机支架上安装固定有伺服电机,伺服电机的电机轴上固定有减速机,减速机上安装固定有支撑板;镀膜仪的底部设置有用于控制电机的操作面板。

作为优选的技术方案,凸起部上,设置有隔离软套,隔离软套围住转动组件。

作为优选的技术方案,漏液通道的一端和置物槽导通,漏液通道的另一端和镀膜腔导通,其另一端和空腔导通,漏液通道的直径由靠近置物槽的一端朝着其另一端不断缩小。

作为优选的技术方案,吸水块为耐腐蚀的胶质材料制成,吸水块内设置有内腔,吸水块的表面设置有多个进水口。

本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型操作简单,镀膜均匀,提升了镀膜质量;

2、便于回收镀膜液等物质,减少了资源浪费。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型的整体结构图;

图2为本实用新型的置物板的俯向结构图;

图3为本实用新型的吸水块的结构图。

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征,或公开的所有方法或过程中的步骤,除了互相排斥的特征和/或步骤以外,均可以以任何方式组合。

本说明书包括任何附加权利要求、摘要和附图中公开的任一特征,除非特别叙述,均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即,除非特别叙述,每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。

在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“一端”、“另一端”、“外侧”、“上”、“内侧”、“水平”、“同轴”、“中央”、“端部”、“长度”、“外端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外,在本实用新型的描述中,“多个”的含义是至少两个,例如两个,三个等,除非另有明确具体的限定。

本实用新型使用的例如“上”、“上方”、“下”、“下方”等表示空间相对位置的术语是出于便于说明的目的来描述如附图中所示的一个单元或特征相对于另一个单元或特征的关系。空间相对位置的术语可以旨在包括设备在使用或工作中除了图中所示方位以外的不同方位。例如,如果将图中的设备翻转,则被描述为位于其他单元或特征“下方”或“之下”的单元将位于其他单元或特征“上方”。因此,示例性术语“下方”可以囊括上方和下方这两种方位。设备可以以其他方式被定向旋转90度或其他朝向,并相应地解释本文使用的与空间相关的描述语。

在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“套接”、“连接”、“贯穿”、“插接”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系,除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1至图3所示,包括镀膜仪1,镀膜仪1内设置有密封的镀膜腔111,镀膜仪内还设置有大量的镀膜设备,镀膜仪的一侧还设置有密封的仪门,打开仪门将需要镀膜的物质放入。上述结构均为现有技术,且不是本技术方案的保护点,因此不做详细阐述。

本实施例中,镀膜腔111的腔底中心设置有凸起部2,凸起部2上设置有中心凹槽211,中心凹槽211固定有转动组件,转动组件上固定有支撑板3,支撑板3遮挡住凸起部2,支撑板3上设置有置物槽311,支撑板3和镀膜腔111的侧面形成有空隙,支撑板3上设置有多个漏液孔5,漏液孔5内设置有密封块6,密封块6上形成有漏液通道611;镀膜腔111的内壁固定有多块(耐高温的橡胶制成,直接粘结固定)刮板7,刮板7延伸至镀膜腔111的上端;镀膜腔111的底部贴合有隔离膜88,隔离膜88的中心处设置有吸水块66。

其中,镀膜腔111的腔底为圆形结构。

其中,镀膜仪1的一侧安装固定有连接管8,连接管8连接有真空泵9,真空泵9的出气端安装固定有排气管11,连接管8和镀膜仪1的连接处固定有密封圈;镀膜仪1的一侧设置有观察窗口,观察窗口内密封固定有透明板12(可以为透明的玻璃等结构通过胶水密封)。本装置在使用时,通过真空泵对镀膜仪内部抽气,达到真空效果。通过透明板观察镀膜仪内部。

其中,转动组件包括安装固定有在中心凹槽211内的电机支架13,电机支架13上安装固定有伺服电机15,伺服电机15的电机轴上固定有减速机16,减速机16上安装固定有支撑板3;镀膜仪1的底部设置有用于控制伺服电机15的操作面板17。

其中,凸起部2上设置有隔离软套18(耐腐蚀的橡胶制成),隔离软套18围住转动组件。隔离软套对电机进行保护。

其中,漏液通道611的一端和置物槽311导通,漏液通道611的另一端和镀膜腔111导通,其另一端和镀膜腔111导通,漏液通道611的直径由靠近置物槽311的一端朝着其另一端不断缩小。

其中,吸水块66为耐腐蚀的胶质材料制成,吸水块66内设置有内腔162,吸水块66的表面设置有多个进水口161,吸水块和隔离膜之间年检固定,隔离膜材料tpu材料制成。

其中,本装置内的粘结方式均采用耐高温胶水。

本装置在使用时,打开仪门,将需要镀膜的物料放置在置物槽内。然后通过真空泵对内部进行抽真空处理。然后进行对物料进行镀膜,镀膜时通过操作面板启动电机和减速机,电机和减速机在工作状态下使得置物板和物料进行转动。使得镀膜液等物能够充分接触物料,更加均匀。刮板能够起到刮平镀膜液的效果,使得镀膜更加均匀。

在转动状态下,镀膜液等通过支撑板上的漏液通过甩出进入至镀膜腔的腔底被隔离膜和吸水块收集,便于后续回收再利用。

以上所述,仅为本实用新型的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何不经过创造性劳动想到的变化或替换,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。因此,本实用新型的保护范围应该以权利要求书所限定的保护范围为准。


技术特征:

1.一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括镀膜仪(1),镀膜仪(1)内设置有密封的镀膜腔(111),其特征在于:镀膜腔(111)的腔底中心设置有凸起部(2),凸起部(2)上设置有中心凹槽(211),中心凹槽(211)固定有转动组件,转动组件上固定有支撑板(3),支撑板(3)遮挡住凸起部(2),支撑板(3)上设置有置物槽(311),支撑板(3)和镀膜腔(111)的侧面形成有空隙,支撑板(3)上设置有多个漏液孔(5),漏液孔(5)内设置有密封块(6),密封块(6)上形成有漏液通道(611);镀膜腔(111)的内壁固定有多块刮板(7),刮板(7)延伸至镀膜腔(111)的上端;镀膜腔(111)的底部贴合有隔离膜(88),隔离膜(88)的中心处设置有吸水块(66)。

2.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:镀膜腔(111)的腔底为圆形结构。

3.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:镀膜仪(1)的一侧安装固定有连接管(8),连接管(8)连接有真空泵(9),真空泵(9)的出气端安装固定有排气管(11),连接管(8)和镀膜仪(1)的连接处固定有密封圈;镀膜仪(1)的一侧设置有观察窗口,观察窗口内密封固定有透明板(12)。

4.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:转动组件包括安装固定有在中心凹槽(211)内的电机支架(13),电机支架(13)上安装固定有伺服电机(15),伺服电机(15)的电机轴上固定有减速机(16),减速机(16)上安装固定有支撑板(3);镀膜仪(1)的底部设置有用于控制伺服电机(15)的操作面板(17)。

5.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:凸起部(2)上,设置有隔离软套(18),隔离软套(18)围住转动组件。

6.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:漏液通道(611)的一端和置物槽(311)导通,漏液通道(611)的另一端和镀膜腔(111)导通,其另一端和镀膜腔(111)导通,漏液通道(611)的直径由靠近置物槽(311)的一端朝着其另一端不断缩小。

7.根据权利要求1所述的镀膜均匀的真空镀膜装置,其特征在于:吸水块(66)为耐腐蚀的胶质材料制成,吸水块(66)内设置有内腔(162),吸水块(66)的表面设置有多个进水口(161)。

技术总结
本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜装置,包括镀膜仪,镀膜仪内设置有密封的镀膜腔,镀膜腔的腔底中心设置有凸起部,凸起部上设置有中心凹槽,中心内固定有转动组件,转动组件上固定有支撑板,支撑板遮挡住凸起部,支撑板上设置有置物槽,支撑板和镀膜腔的侧面形成有空隙,支撑板上设置有多个漏液孔,漏液孔内设置有密封块,密封块上形成有漏液通道;镀膜腔的内壁固定有多块刮板,刮板延伸至镀膜腔的上端;镀膜腔的底部贴合有隔离膜,隔离膜的中心处设置有吸水块。

技术研发人员:许元理;汪曙新;刘扬
受保护的技术使用者:深圳市联生佳科技有限公司
技术研发日:2020.07.19
技术公布日:2021.04.06

转载请注明原文地址:https://xbbs.6miu.com/read-13277.html