本实用新型涉及镀膜装置领域，具体为一种铟锡镀膜装置。
背景技术：
真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。
通常，我们使用的铟锡镀膜装置是在真空室，通过磁控溅射装置将靶材打在基片上，从而达到镀膜的效果，现有的铟锡镀膜装置是将基片搭在支架上进行操作，支架无法夹紧基片，基片晃动会影响镀膜效果，且镀膜装置内部水气较大，经常导致膜层导通。
技术实现要素：
本实用新型的目的在于提供一种铟锡镀膜装置，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种铟锡镀膜装置，包括镀膜装置本体，所述镀膜装置本体的内部上端固定连接有固定块，所述固定块的内部通过滑槽滑动连接有滑杆，所述滑杆的外表面固定连接有第一夹板，所述第一夹板的外表面螺纹连接有螺栓，所述螺栓的一端螺纹连接有第二夹板，所述第二夹板的上端固定连接有固定块；
所述第一夹板穿过穿孔挤压连接有基片，所述基片的一端挤压连接有第二夹板。
优选的，所述镀膜装置本体的内部一侧固定连接有加热管，所述镀膜装置本体的底部固定连接有分子泵，所述镀膜装置本体的内部固定连接有磁控溅射装置，所述磁控溅射装置的上端固定连接有铟锡靶材。
优选的，所述镀膜装置本体的后板中部设置有制冷管，所述制冷管的外表面设有吸附口，所述制冷管的端部固定连接有管套，所述管套的端部固定连接有软管，所述软管的端部固定连接有水汽捕集器。
优选的，所述镀膜装置本体的一侧设有空气阀。
优选的，所述镀膜装置本体的一侧设有门塞，所述门塞的外表面设有把手，所述镀膜装置本体的下端设有万向轮。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该铟锡镀膜装置通过第一夹板、第二夹板和螺栓的共同作用对基片进行固定，防止基片晃动，提高镀膜效果，通过分子泵、水汽捕集器和加热管的共同作用减少装置内部水汽，减少膜层导通现象的发生。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型的a处放大图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实用新型涉及镀膜装置，包括镀膜装置本体5，镀膜装置本体5的内部上端固定连接有固定块9，固定块9的内部通过滑槽8滑动连接有滑杆7，滑杆7的外表面固定连接有第一夹板20，第一夹板20的外表面螺纹连接有螺栓19，螺栓19的一端螺纹连接有第二夹板22，第二夹板22的上端固定连接有固定块9，扭动螺栓19即可通过滑杆7在滑槽8内滑动，从而移动第一夹板20；
第一夹板20穿过穿孔21挤压连接有基片10，基片10的一端挤压连接有第二夹板22，通过第一夹板20和第二夹板22的共同作用对基片10进行固定。
镀膜装置本体5的内部一侧固定连接有加热管6，加热管6型号为dn40，镀膜装置本体5的底部固定连接有分子泵15，分子泵15的型号为stp-f2203cv，镀膜装置本体5的内部固定连接有磁控溅射装置14，磁控溅射装置14的上端固定连接有铟锡靶材16，加热管6用于烘烤镀膜装置本体5内部水汽，增加水分子运动能力，分子泵15用于提供真空环境。
镀膜装置本体5的后板中部设置有制冷管11，制冷管11的外表面设有吸附口17，制冷管11的端部固定连接有管套18，管套18的端部固定连接有软管12，软管12的端部固定连接有水汽捕集器13，水汽捕集器13的型号为kd-2100，水汽捕集器13用于收集水汽。
镀膜装置本体5的一侧设有空气阀3，空气阀3是注射氩气的通道。
镀膜装置本体5的一侧设有门塞1，门塞1的外表面设有把手2，镀膜装置本体5的下端设有万向轮4，万向轮4用于移动镀膜装置本体5。
本实用新型在具体实施时：在使用时，通过把手2拉动门塞1使得门塞1脱离镀膜装置本体5，扭动螺栓19，通过滑杆7在滑槽8内滑动，从而移动第一夹板20，将基片10卡接在第一夹板20和第二夹板22内，扭动螺栓19，使得第一夹板20移动，继而挤压基片10，对基片10进行固定，这种做法对基片进行固定，防止基片晃动，提高镀膜效果，然后盖上门塞1，打开加热管6的开关，加热管6对镀膜装置本体5内部进行加热，烘烤镀膜装置本体5内部水汽，增加水分子运动能力，然后打开水汽捕集器13，水汽捕集器13通过制冷管11上的吸附口17对水汽进行收集，通过软管12存放至水汽捕集器13内部，这种做法减少装置内部水汽，减少膜层导通现象的发生，然后从空气阀3注入氩气，并打开分子泵15的开关，实现真空状态，再通过磁控溅射装置14对基片10镀膜。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
1.一种铟锡镀膜装置，包括镀膜装置本体（5），其特征在于：所述镀膜装置本体（5）的内部上端固定连接有固定块（9），所述固定块（9）的内部通过滑槽（8）滑动连接有滑杆（7），所述滑杆（7）的外表面固定连接有第一夹板（20），所述第一夹板（20）的外表面螺纹连接有螺栓（19），所述螺栓（19）的一端螺纹连接有第二夹板（22），所述第二夹板（22）的上端固定连接有固定块（9）；
所述第一夹板（20）穿过穿孔（21）挤压连接有基片（10），所述基片（10）的一端挤压连接有第二夹板（22）。
2.根据权利要求1所述的一种铟锡镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置本体（5）的内部一侧固定连接有加热管（6），所述镀膜装置本体（5）的底部固定连接有分子泵（15），所述镀膜装置本体（5）的内部固定连接有磁控溅射装置（14），所述磁控溅射装置（14）的上端固定连接有铟锡靶材（16）。
3.根据权利要求1所述的一种铟锡镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置本体（5）的后板中部设置有制冷管（11），所述制冷管（11）的外表面设有吸附口（17），所述制冷管（11）的端部固定连接有管套（18），所述管套（18）的端部固定连接有软管（12），所述软管（12）的端部固定连接有水汽捕集器（13）。
4.根据权利要求1所述的一种铟锡镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置本体（5）的一侧设有空气阀（3）。
5.根据权利要求1所述的一种铟锡镀膜装置，其特征在于：所述镀膜装置本体（5）的一侧设有门塞（1），所述门塞（1）的外表面设有把手（2），所述镀膜装置本体（5）的下端设有万向轮（4）。
技术总结