本实用新型涉及半导体晶片技术领域，尤其涉及一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置。
背景技术：
随着半导体器件工艺制作的不断完善，器件尺寸越来越小，利用率也越来越高，半导体衬底的质量尤其是晶片表面的质量对器件的可靠性和稳定性影响也越来越大，晶片表面清洗是晶片加工过程中最重要及最后一个环节，是获得高质量表面不可或缺的步骤，晶片表面清洗的目的是去除前道工序的各种残留物质，获取新鲜、表面平整、洁净的表面。
而现有清理装置清洁起来方式单一，无法保证表面灰尘杂质完全清除，并且需要手动调整晶片位置，操作麻烦。
技术实现要素：
本实用新型的目的是为了解决现有技术中提出的问题，而提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置。
为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：
一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，包括工作台，所述工作台底部两侧均固定连接有支撑板，所述工作台顶部两侧均固定连接有挡板，所述工作台顶部于两个挡板之间放置有过滤网，两个所述挡板之间固定连接有横杆，所述横杆外活动套设有套管，所述套管顶部固定连接有蓄水箱，所述蓄水箱两侧底部均固定连接有排水管，所述排水管底部固定连接有喷淋管道，所述套管底部固定连接有电动推杆，所述电动推杆底部于两个喷淋管道下方固定连接有毛刷板，所述毛刷板底部设有刷毛，所述毛刷板上开设有多个漏孔。
其中，所述过滤网顶部滑动连接有放置板，所述放置板顶部两侧均对称铰接有卡扣，两个所述挡板相向的一侧均固定连接有往复推杆，所述往复推杆一端与放置板固定连接。
其中，所述排水管上安装有调节阀。
其中，两个所述支撑板之间活动连接有集液屉。
其中，所述喷淋管道底部设有多个喷水口。
其中，所述放置板底部两侧均固定连接有滑块，所述工作台上水平开设有与滑块相匹配的滑槽。
与现有技术相比，本实用新型具备以下优点：
1、本实用新型通过设置蓄水箱、喷淋管道、电动推杆、毛刷板、漏孔和刷毛，能在清理的同时使用清洗液冲洗，双重清洁，清理效果好。
2、本实用新型通过设置放置板、卡扣和往复推杆，能便于晶片的固定，清理时稳定不晃动，同时往复推杆带动放置板水平移动能提高清理的效率。
综上，本实用新型能在清理的同时使用清洗液冲洗，双重清洁，清理效果好，便于晶片的固定，清理时稳定不晃动，同时往复推杆带动放置板水平移动能提高清理的效率。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的实施例一结构示意图；
图2为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的实施例二结构示意图；
图3为本实用新型提出的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置的a处放大图。
图中：1工作台、2支撑板、3挡板、4过滤网、5横杆、6套管、7蓄水箱、8排水管、9喷淋管道、10电动推杆、11毛刷板、12刷毛、13漏孔、14放置板、15卡扣、16往复推杆。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
实施例一：
参照图1，一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，包括工作台1，工作台1底部两侧均固定连接有支撑板2，工作台1顶部两侧均固定连接有挡板3，工作台1顶部于两个挡板3之间放置有过滤网4，两个挡板3之间固定连接有横杆5，横杆5外活动套设有套管6，套管6顶部固定连接有蓄水箱7，蓄水箱7两侧底部均固定连接有排水管8，排水管8底部固定连接有喷淋管道9，套管6底部固定连接有电动推杆10，电动推杆10底部于两个喷淋管道9下方固定连接有毛刷板11，毛刷板11底部设有刷毛12，毛刷板11上开设有多个漏孔13。
其中，排水管8上安装有调节阀。
其中，两个支撑板2之间活动连接有集液屉。
其中，喷淋管道9底部设有多个喷水口。
其中，放置板14底部两侧均固定连接有滑块，工作台1上水平开设有与滑块相匹配的滑槽。
本实用新型中，使用时，将晶片直接放置在过滤网4上，然后移动横杆5上的套管6，让毛刷板11上的刷毛12对晶片表面粉尘进行清理，能在清理的同时打开排水管8上的调节阀，让蓄水箱7内的清洗液通过喷淋管道9喷洒到刷毛12上，刷毛12配合清洗液冲洗清洁晶片，双重清洁，清理效果好。
实施例二：
参照图2-3，一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，包括工作台1，工作台1底部两侧均固定连接有支撑板2，工作台1顶部两侧均固定连接有挡板3，工作台1顶部于两个挡板3之间放置有过滤网4，两个挡板3之间固定连接有横杆5，横杆5外活动套设有套管6，套管6顶部固定连接有蓄水箱7，蓄水箱7两侧底部均固定连接有排水管8，排水管8底部固定连接有喷淋管道9，套管6底部固定连接有电动推杆10，电动推杆10底部于两个喷淋管道9下方固定连接有毛刷板11，毛刷板11底部设有刷毛12，毛刷板11上开设有多个漏孔13。
其中，过滤网4顶部滑动连接有放置板14，放置板14顶部两侧均对称铰接有卡扣15，两个挡板3相向的一侧均固定连接有往复推杆16，往复推杆16一端与放置板14固定连接。
其中，排水管8上安装有调节阀。
其中，两个支撑板2之间活动连接有集液屉。
其中，喷淋管道9底部设有多个喷水口。
其中，放置板14底部两侧均固定连接有滑块，工作台1上水平开设有与滑块相匹配的滑槽。
本实用新型中，使用时，将晶片直接放置在过滤网4上，然后移动横杆5上的套管6，让毛刷板11上的刷毛12对晶片表面粉尘进行清理，能在清理的同时打开排水管8上的调节阀，让蓄水箱7内的清洗液通过喷淋管道9喷洒到刷毛12上，刷毛12配合清洗液冲洗清洁晶片，双重清洁，清理效果好。
放置板14上的卡扣15能便于晶片的固定，清理时稳定不晃动，同时往复推杆16带动放置板14水平移动能提高清理的效率。
以上，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
1.一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，包括工作台(1)，其特征在于，所述工作台(1)底部两侧均固定连接有支撑板(2)，所述工作台(1)顶部两侧均固定连接有挡板(3)，所述工作台(1)顶部于两个挡板(3)之间放置有过滤网(4)，两个所述挡板(3)之间固定连接有横杆(5)，所述横杆(5)外活动套设有套管(6)，所述套管(6)顶部固定连接有蓄水箱(7)，所述蓄水箱(7)两侧底部均固定连接有排水管(8)，所述排水管(8)底部固定连接有喷淋管道(9)，所述套管(6)底部固定连接有电动推杆(10)，所述电动推杆(10)底部于两个喷淋管道(9)下方固定连接有毛刷板(11)，所述毛刷板(11)底部设有刷毛(12)，所述毛刷板(11)上开设有多个漏孔(13)。
2.根据权利要求1所述的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，其特征在于，所述过滤网(4)顶部滑动连接有放置板(14)，所述放置板(14)顶部两侧均对称铰接有卡扣(15)，两个所述挡板(3)相向的一侧均固定连接有往复推杆(16)，所述往复推杆(16)一端与放置板(14)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，其特征在于，所述排水管(8)上安装有调节阀。
4.根据权利要求1所述的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，其特征在于，两个所述支撑板(2)之间活动连接有集液屉。
5.根据权利要求1所述的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，其特征在于，所述喷淋管道(9)底部设有多个喷水口。
6.根据权利要求2所述的一种用于半导体测试的晶片作表面清理装置，其特征在于，所述放置板(14)底部两侧均固定连接有滑块，所述工作台(1)上水平开设有与滑块相匹配的滑槽。
技术总结