本发明涉及一种含有氟及铝的水的处理方法，尤其涉及一种对含有氟及铝的水进行逆渗透(ro)膜处理的含有氟及铝的水的处理方法。
背景技术：
1、在电子显示器、半导体等的电子工业领域的制造工厂中使用了多种类的化学品，主要在蚀刻、清洗等生产工序中大量地使用了氟化氢/氢氟酸(hydrogen fluoride，hf)、氟硼酸(hbf4)、氟化铵(nh4f)等氟化物。因此，自这些工序中会大量地产生含有此种氟化物的排水。特别是自硅晶片的蚀刻工序中排出包含氟化物且也包含二氧化硅的排水。另外，自使用氟化铵的工序中排出进而包含铵成分的排水。
2、之前，作为含有氟化物的水的处理方法，广为人知的是对含有氟化物的水进行ro(逆渗透(reverse osmosis))膜处理而回收脱盐水的方法。例如在专利文献1中记载了如下情况：在对氟浓度4mg/l～43mg/l的含有重金属的排水进行ph值调整后，进行凝聚处理，其后进行ro处理。在专利文献1中未记载含有重金属的排水含有铝的情况。
3、在专利文献2中记载了如下情况：在将含有ca离子的工业用水与含有f离子的电子零件制造排水的混合水的ph值调整为3～6后，作为螯合剂添加乙二胺四乙酸(ethylenediamine tetraacetic acid，edta)，之后进行ro处理。在专利文献2中并无关于所述混合水含有铝的记载。
4、在专利文献3中记载了如下情况：在将钙盐添加到电子零件制造工序排水中后，进行凝聚处理，继而进行固液分离处理后，添加螯合剂，其后进行ro处理。在专利文献3的实施例中虽记载了对作为原水即包含ca、mg、al、p、nh4、f、以及si且f浓度为565mg/l、al浓度为0.2mg/l的原水进行凝聚处理后进行固液分离，继而添加0.0025mmol/l的edta后，进行ro处理，但并无关于ro供水中的al浓度的记载。
5、现有技术文献
6、专利文献
7、专利文献1：日本专利特开2003-340450号公报
8、专利文献2：日本专利特开2001-104955号公报
9、专利文献3：日本专利特开2014-213264号公报
技术实现思路
1、发明所要解决的问题
2、在对含有氟及铝的水进行ro处理的情况下，发现根据氟及铝的浓度以及ph值条件的不同，在ro膜面上会析出冰晶石等而使通量(透水流量)降低。
3、本发明的课题在于提供一种能够抑制由铝引起的ro的通量降低的含有氟及铝的水的处理方法。
4、解决问题的技术手段
5、本发明的含有氟及铝的水的处理方法是向含有氟及铝的水中添加浓度为所述含有氟及铝的水中的铝浓度的100重量倍以上的螯合剂后通水至逆渗透膜装置中。
6、在本发明的一实施例中，所述含有氟及铝的水的ph值为4～6。
7、在本发明的一实施例中，所述螯合剂为edta。
8、发明的效果
9、通过本发明的含有氟及铝的水的处理方法，能够抑制对氟及铝进行ro处理时的ro通量的降低，从而效率良好地进行处理。
1.一种含有氟及铝的水的处理方法，向含有氟及铝的水中添加浓度为所述含有氟及铝的水中的铝浓度的100重量倍以上的螯合剂后，通水至逆渗透膜装置中。
2.根据权利要求1所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，所述含有氟及铝的水的ph值为4～6。
3.根据权利要求1或2所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，所述螯合剂为乙二胺四乙酸。
4.根据权利要求1或2所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，向所述含有氟及铝的水中添加浓度为所述含有氟及铝的水中的铝浓度的100重量倍～1500重量倍的所述螯合剂。
5.根据权利要求1或2所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，向所述含有氟及铝的水中添加浓度为所述含有氟及铝的水中的铝浓度的800重量倍～1500重量倍的所述螯合剂。
6.根据权利要求1或2所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，所述含有氟及铝的水的f离子浓度为50mg/l～700mg/l，al离子浓度为0.01mg/l～1mg/l。
7.根据权利要求1或2所述的含有氟及铝的水的处理方法，其中，所述含有氟及铝的水的总有机碳浓度为10mg/l以下。
