本发明涉及建筑陶瓷领域，尤其涉及一种幻彩大理石瓷砖及其制造方法。
背景技术：
1、传统大理石瓷砖生产制造着重在于纹理与喷墨调色，对于天然大理石中的石材晶体，由于光线折射产生的色彩变化，难以有效表达。而这些石材晶体对对光线的分解，产生的幻彩效果却是石材最迷人的部分。
2、目前行业内在制作幻彩干粒釉层时，通常以透明干粒作为基础料，在其中混合少量闪烁干粒(1-3％)，整面布施，达到砖面有零星闪烁的效果，并不能够真正完全复刻天然大理石的幻彩效果，但如果闪烁干粒添加量过大，则会影响砖面纹理的清晰度。
技术实现思路
1、针对上述问题，本发明通过改进现有的幻彩干粒釉层的成分及工艺，提供一种幻彩大理石及其制造方法。
2、为实现上述目的，本发明采取的技术方案为：
3、一种幻彩大理石的制造方法，包括以下步骤：
4、(1)在陶瓷砖坯表面施底釉，然后喷墨打印大理石纹理图案；
5、(2)在步骤(1)得到的陶瓷砖坯表面，丝网印刷施色釉；
6、(3)在色釉的表面局部定位布施幻彩干粒釉，所述幻彩干粒釉由40-50份透明干粒、20-30份闪烁干粒、20-30份印油、10-15份印膏混合而成；按照重量百分比，所述透明干粒化学组成为sio2 55-60％、al2o3 5.5-8.5％、fe2o3 0-0.3％、cao 10-15％、mgo 0.2-0.3％、bao 1.5-4％、zno 8-15％、k2o 5-9％、na2o 0-3％、zro2 0.2-0.5％、tio2 0-1.5％，其余为烧失量；所述闪烁干粒化学组成为sio2 30-40％、zro2 60-70％、al2o3 0-1％、cao0-1％、tio2 0-1％，其余为烧失量；
7、(4)在步骤(3)得到的陶瓷砖坯表面淋保护釉；
8、(5)将步骤(4)所得的砖坯烧制成型；
9、(6)将步骤(5)所得的砖坯抛光及打蜡。
10、本发明方案通过采用局部定点布施幻彩干粒釉，可加大幻彩干粒釉中闪烁干料比例，而且在幻彩干粒度釉中，由于本发明采用的透明干粒熔点较低，在烧制过程中，先熔融包裹住熔点高的闪烁干粒，使得釉面层中，被包裹的闪烁干粒可以层层堆积，形成光线的折射层，从而形成更逼真的幻彩效果。进一步结合保护釉层，由于保护釉在釉面层具有一定厚度，可以对其进行全抛光，使得砖面平整，且不伤害釉下层。既可以为砖面抛光提供较高的切削量，又不影响砖面的防污等性能。而且由于在表面淋了一层保护釉，使得闪烁干粒在釉层的上下均有分布，形成立体的闪烁幻彩效果，即使抛光也不会影响到表面闪烁幻彩的立体效果。而且抛光打蜡后，砖面被磨平，由于砖面光度较高、平整度较好、釉面通透，光线可以很好的照射釉面中的闪烁干粒，并由数量众多的闪烁干粒发生折射，产生逼真的幻彩渐变的效果。
11、优选地，所述步骤(2)中，通过调整网版，使丝网不同纹理之间的颜色相互侵染，这样可以使得瓷砖的变化过渡自然，可弥补喷墨打印在颜色的丰富度、鲜艳度以及层次感上的不足，提升大理石瓷砖的观赏性。
12、优选地，所述步骤(3)中，按照质量比，幻彩干粒釉中，幻彩干粒：闪烁干粒＝1：0.4～0.6，最终得到的瓷砖幻彩效果和断裂模数均较好。
13、优选地，所述步骤(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量为1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。
14、优选地，所述步骤(3)中，所述透明干粒粒径为37-75μm，所述闪烁干粒粒径为150-250μm。
15、优选地，所述步骤(4)中，保护釉为保护釉粉分散在水中而形成浆料，其中所述保护釉粉的化学组成为sio2 40-45％、al2o3 6-10％、fe2o3≤0.3％、cao 6-10％、mgo 3-6％、bao 7-12％、zno 3-6％、k2o 2-5％、na2o 2-5％、sro 2-5％、so3 1-2.5％、tio2≤0.5％，其余为烧失量。
16、优选地，所述步骤(4)中，保护釉布施量为400-600g/m2，以便达到一定的厚度，利于抛光打蜡，形成平整、光亮的表面。
17、优选地，所述步骤(5)中，烧制温度为1185-1225℃，烧制时间45-60min；温度过低或时间过短，都容易导致瓷砖釉面未完全熔融玻化，影响砖面的通透度。
18、优选地，所述步骤(6)中，抛光后基底砖面光度在70°-80°之间，打蜡后基底砖面光度在90°-100°之间，这样砖面平整通透，在光线照射下，更好地局部呈现出幻彩效果。
19、优选地，所述步骤(6)中，抛光工艺为先采用10组400目弹性磨块，10组600目弹性磨块，压力4kg；然后10组800目弹性磨块，10组1000目弹性模块，压力为2kg；最后20组240目海绵抛，压力为0.5kg。打蜡工艺可以选择常用的陶瓷抛光蜡，如在本发明一个具体实施例中，采用双益中光蜡，滴涂量为12-15g/m2
20、本发明的另一方面，还提供了上述制造方法制备得到的幻彩大理石瓷砖。
21、与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：
22、本发明方案通过改进幻彩干粒釉组分，且在局部布施幻彩干粒釉，烧成的大理石瓷砖可以形成逼真的幻彩效果并不会影响砖面整体的纹理清晰度。而且由于在表面淋了一层一定厚度的透明保护釉，使得闪烁干粒在釉层的上下均有分布，可形成立体的闪烁幻彩效果。即使抛光也不会影响到表面闪烁幻彩的立体效果。
1.一种幻彩大理石瓷砖的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(2)中，通过调整网版，使丝网不同纹理之间的颜色相互侵染。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中，按照质量比，幻彩干粒釉中，透明干粒：闪烁干粒＝1：0.4～0.6。
4.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述幻彩干粒釉的布施量为1-1.2kg/m2，厚度0.75-1.5mm。
5.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(3)中，所述透明干粒粒径为37-75μm，所述闪烁干粒粒径为150-250μm。
6.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(4)中，保护釉为保护釉粉分散在水中而形成浆料；按照重量百分比，所述保护釉粉的化学组成为sio2 40-45％、al2o36-10％、fe2o3≤0.3％、cao 6-10％、mgo 3-6％、bao 7-12％、zno 3-6％、k2o 2-5％、na2o 2-5％、sro 2-5％、so3 1-2.5％、tio2≤0.5％，其余为烧失量。
7.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(4)中，保护釉布施量为400-600g/m2。
8.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(5)中，烧制温度为1185-1225℃，烧制时间45-60min。
9.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述步骤(6)中，抛光后基底砖面光度在70°-80°之间，打蜡后基底砖面光度在90°-100°之间。
10.一种幻彩大理石瓷砖，其特征在于，采用如权利要求1-9任一项所述的制造方法制备得到。
