本发明涉及含有碲的聚合物和化合物。
背景技术：
1、碲(te)具有与氧、硫、硒同等程度的电负性、离子化能或电子亲和力等特性。专利文献1公开了包含te的化合物和树脂作为抗蚀剂材料或光学物品是有用的。
2、现有技术文献
3、专利文献
4、专利文献1：国际公开第2020/226150号
技术实现思路
1、发明要解决的问题
2、专利文献1记载的化合物等虽在产业上有用，但发明人想到若能提供其他类型的含te聚合物，则能更加扩大产业上有用的材料的选择度。特别是，包含te与氧原子或硫原子的化合物具有提高折射率、或能更加提高作为抗蚀剂材料时的灵敏度的可能性。鉴于该情况，本发明的课题在于提供具有与te的醚键或硫醚键的化合物。
3、用于解决问题的方案
4、发明人通过使具有环状(硫)醚基的化合物与四卤化碲进行反应从而解决了前述课题。即，前述课题通过以下的本发明而解决。
5、方式1
6、一种主链中具有碲的聚合物，其是使(a)具有多个环状(硫)醚基的化合物与(b)tex4(此处，x为卤素原子)反应而成的。
7、方式2
8、根据方式1所述的聚合物，其中，前述(a)为后述式(a1)所示的化合物。
9、方式3
10、根据方式2所述的聚合物，其中，前述式中的w为-z-ar-z-所示的基团，ar为具有芳香环或杂环的有机基团。
11、方式4
12、根据方式3所述的聚合物，其中，前述ar为-ar’-u-ar’-所示的基团，
13、ar’为芳香族基团或杂环芳香族基团，
14、u为2价有机基团或单键。
15、方式5
16、根据方式1或2所述的聚合物，其中，前述(a)的环状(硫)醚基具有3～5元环结构。
17、方式6
18、一种方式1～4中任一项所述的聚合物的制造方法，其具备使前述(a)与前述(b)进行加成反应的工序。
19、方式7
20、根据方式6所述的制造方法，其中，在路易斯酸的存在下实施前述反应。
21、方式8
22、一种组合物，其含有方式1～4中任一项所述的聚合物。
23、方式9
24、根据方式8所述的组合物，其包含选自由溶剂、产酸剂、酸交联剂和它们的组合组成的组中的成分。
25、方式10
26、一种抗蚀膜，其由方式8所述的组合物形成。
27、方式11
28、一种图案形成方法，其包括：
29、使用方式8所述的组合物在基板上形成膜的膜形成工序；
30、对前述膜进行曝光的曝光工序；和
31、对前述曝光工序中已曝光的膜进行显影而形成图案的显影工序。
32、方式12
33、一种光刻用下层膜，其是使用方式8所述的组合物而形成的。
34、方式13
35、一种光学部件，其是使用方式8所述的组合物而形成的。
36、方式14
37、一种含碲化合物，其是使(a)具有1个环状(硫)醚基的化合物与(b)(b)tex4(此处，x为卤素原子)反应而成的。
38、方式15
39、一种组合物，其含有方式14所述的含碲化合物。
40、方式16
41、一种纯化方法，其包括：
42、使方式1～4中任一项所述的具有碲的聚合物或方式14所述的含碲化合物溶解于溶剂而得到溶液的工序，该溶剂包含不与水混合的有机溶剂；以及
43、使得到的溶液与酸性的水溶液接触并萃取前述聚合物或化合物中的杂质的第一萃取工序。
44、发明的效果
45、根据本发明，可提供具有与te的醚键或硫醚键的聚合物和化合物。
1.一种主链中具有碲的聚合物，其是使(a)具有多个环状(硫)醚基的化合物与(b)tex4反应而成的，此处，x为卤素原子。
2.根据权利要求1所述的聚合物，其中，所述(a)为式(a1)所示的化合物，
3.根据权利要求2所述的聚合物，其中，所述w为-z-ar-z-所示的基团，
4.根据权利要求3所述的聚合物，其中，所述ar为-ar’-u-ar’-所示的基团，
5.根据权利要求1或2所述的聚合物，其中，所述(a)的环状(硫)醚基具有3～5元环结构。
6.一种权利要求1或2所述的聚合物的制造方法，其具备使所述(a)与所述(b)进行加成反应的工序。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其中，在路易斯酸的存在下实施所述反应。
8.一种组合物，其含有权利要求1或2所述的聚合物。
9.根据权利要求8所述的组合物，其包含选自由溶剂、产酸剂、酸交联剂和它们的组合组成的组中的成分。
10.一种抗蚀膜，其由权利要求8所述的组合物形成。
11.一种图案形成方法，其包括：
12.一种光刻用下层膜，其是使用权利要求8所述的组合物而形成的。
13.一种光学部件，其是使用权利要求8所述的组合物而形成的。
14.一种含碲化合物，其是使(a)具有1个环状(硫)醚基的化合物与(b)tex4反应而成的，此处，x为卤素原子。
15.一种组合物，其含有权利要求14所述的含碲化合物。
16.一种纯化方法，其包括：
