本发明涉及铸造件表面处理，具体为一种铸件的表面处理自动化系统。
背景技术：
1、在传统的铸造件表面处理设备中，通常采用的是固定砂轮或者喷砂装置进行打磨。这些设备往往依赖于人工调节铸造件的位置，以确保打磨的均匀性。然而，由于铸造件形状复杂且尺寸多样，人工调节往往难以精准控制，导致部分表面打磨不均匀，或是难以达到预期的光滑效果。并且现有的设备由于体积的限制无法同时对多个铸造件进行打磨抛光，这也决定了目前现有的打磨设备对铸造件的打磨效率不高。
技术实现思路
1、为克服上述现有技术的缺陷，本发明提供如下技术方案：一种铸件的表面处理自动化系统，包括砂池，砂池的底部固定密封有底部密封座，底部密封座上旋转安装有旋转盘，旋转盘上圆形阵列的固定有多个旋转拨板，砂池内壁上还通过分隔板支架固定有分隔板，分隔板的下表面与所有的旋转拨板均滑动配合，并且分隔板的中部设置有开孔，分隔板的圆周处于砂池的内壁之间设有缝隙，用于驱动砂池内部的打磨砂循环流动，其中旋转盘由驱动电机驱使旋转。
2、优选地，底部密封座的下表面固定有防尘支撑壳，防尘支撑壳内部旋转安装有外圈齿轮罩，外圈齿轮罩与旋转盘之间通过转轴固定，外圈齿轮罩内旋转安装有行星齿轮支撑盘，行星齿轮支撑盘上旋转安装有与外圈齿轮罩啮合的行星齿轮，外圈齿轮罩的轴心处旋转配设有与行星齿轮啮合的中心齿轮，其中中心齿轮与固定在防尘支撑壳上的驱动电机的输出轴固定。
3、优选地，行星齿轮支撑盘与外圈齿轮罩之间设置有旋转轴承，用于降低二者的摩擦阻力，其中防尘支撑壳的内部位于外圈齿轮罩与底部密封座值之间的位置配设有电磁铁，电磁铁与防尘支撑壳或底部密封座固定，电磁铁与外圈齿轮罩旋转配合，行星齿轮支撑盘与电磁铁之间磁力配合。
4、优选地，砂池固定在中间支撑隔板上，中间支撑隔板上还固定安装有两个对称布置的升降电缸，两个升降电缸伸缩杆上固定有调节支撑板，调节支撑板上固定有密封盖板，密封盖板上固定安装有两个平行布置的引导滑杆，两个引导滑杆的顶端固定有顶部横梁。
5、优选地，顶部横梁上旋转安装有线盘，线盘上缠绕设置有线绳，顶部横梁上还固定有拉扯电机支架，拉扯电机支架上固定有拉扯电机，拉扯电机的输出轴上固定有花键轴，花键轴与线盘固定配合，其中花键轴上通过花键滑动的方式套设有旋转限制盘，顶部横梁上与旋转限制盘同轴的位置固定有静止限制盘，静止限制盘与旋转限制盘之间设置有能够相互卡接的齿形，在静止限制盘与旋转限制盘之间或旋转限制盘与拉扯电机支架之间旋转安装有套设在花键轴上的弹性组件，在拉扯电机支架或顶部横梁内嵌设有与旋转限制盘磁力配合的电磁线圈。
6、优选地，两个引导滑杆上还滑动安装有拉板架，拉板架上旋转安装有多根花键套管轴，每根花键套管轴的圆周表面上均采用花键的方式滑动安装有摆动齿轮，密封盖板上表面的中部固定有扣盖板，其中所有的摆动齿轮旋转配设在扣盖板与密封盖板之间，扣盖板与密封盖板之间的圆心位置还旋转安装有与所有的摆动齿轮均啮合的摆动齿盘。
7、优选地，摆动齿盘上还固定有摆臂杆，摆臂杆位于扣盖板的上方，扣盖板上还固定有弧形滑轨，扣盖板上还活动安装有调节电缸，调节电缸伸缩杆的端部与摆臂杆之间活动连接，摆臂杆与调节电缸的活动连接处与弧形滑轨滑动配合，用于带动摆动齿盘旋转。
8、优选地，每根花键套管轴中部均滑动安装有夹持拉杆，夹持拉杆的底端延伸至花键套管轴底端的下方，并且花键套管轴和夹持拉杆的底端分别固定有第一夹持板和第二夹持板，其中花键套管轴的顶端固定有夹持电缸，夹持电缸的伸缩杆端部与夹持拉杆固定，用于调节第一夹持板和第二夹持板之间的距离。
9、优选地，线绳的一端与拉板架固定，每个引导滑杆上均环绕设置有拉簧，拉簧的两端分别与拉板架和扣盖板固定。
10、优选地，密封盖板的下表面固定有多个圆形阵列布置的引导板，其中第一夹持板和第二夹持板设置在相邻两个引导板的中间位置，中间支撑隔板固定在外壳的内部。
11、本发明与现有技术相比具备以下有益效果：（1）本发明通过旋转拨板的旋转，驱动打磨砂在砂池内形成有序的循环流动，结合分隔板的设计，使得打磨砂在铸造件表面均匀分布，确保了铸造件表面打磨的均匀性和一致性。由于铸造件可以在第一夹持板和第二夹持板之间稳定夹持，并通过摆动齿盘的摆动实现不同位置的打磨，使得设备能够高效地对铸造件表面进行全方位处理，从而提升铸造件的表面光洁度和质量；（2）本发明采用打磨砂在砂池内径向流动的方式对砂池内的铸造件进行同时打磨，设计了多个花键套管轴，每个花键套管轴上都配有第一夹持板和第二夹持板，能够同时夹持多个铸造件进行打磨处理。这种设计极大地提高了设备的工作效率，减少了单个铸件打磨过程中的等待时间，使得生产线能够更快速地处理大批量铸造件；（3）本发明设备中的摆臂杆和摆动齿盘设计使得铸造件可以在打磨过程中进行角度调整，从而改变打磨砂的流动方向与铸造件表面的接触角度。这种灵活的角度控制机制，使得设备能够更加精准地处理复杂表面，确保铸造件的各个位置都能得到充分打磨，进一步提升打磨效果的精细度。
1.一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：包括砂池（130），砂池（130）的底部固定密封有底部密封座（135），底部密封座（135）上旋转安装有旋转盘（134），旋转盘（134）上圆形阵列的固定有多个旋转拨板（133），砂池（130）内壁上还通过分隔板支架（131）固定有分隔板（132），分隔板（132）的下表面与所有的旋转拨板（133）均滑动配合，并且分隔板（132）的中部设置有开孔，分隔板（132）的圆周处于砂池（130）的内壁之间设有缝隙，用于驱动砂池（130）内部的打磨砂循环流动，其中旋转盘（134）由驱动电机（137）驱使旋转；
2.根据权利要求1所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：底部密封座（135）的下表面固定有防尘支撑壳（136），防尘支撑壳（136）内部旋转安装有外圈齿轮罩（138），外圈齿轮罩（138）与旋转盘（134）之间通过转轴固定，外圈齿轮罩（138）内旋转安装有行星齿轮支撑盘（142），行星齿轮支撑盘（142）上旋转安装有与外圈齿轮罩（138）啮合的行星齿轮（140），外圈齿轮罩（138）的轴心处旋转配设有与行星齿轮（140）啮合的中心齿轮（141），其中中心齿轮（141）与固定在防尘支撑壳（136）上的驱动电机（137）的输出轴固定。
3.根据权利要求2所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：行星齿轮支撑盘（142）与外圈齿轮罩（138）之间设置有旋转轴承，用于降低二者的摩擦阻力，其中防尘支撑壳（136）的内部位于外圈齿轮罩（138）与底部密封座（135）值之间的位置配设有电磁铁（139），电磁铁（139）与防尘支撑壳（136）或底部密封座（135）固定，电磁铁（139）与外圈齿轮罩（138）旋转配合，行星齿轮支撑盘（142）与电磁铁（139）之间磁力配合。
4.根据权利要求3所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：砂池（130）固定在中间支撑隔板（101）上，中间支撑隔板（101）上还固定安装有两个对称布置的升降电缸（103），两个升降电缸（103）伸缩杆上固定有调节支撑板（104），调节支撑板（104）上固定有密封盖板（105），密封盖板（105）上固定安装有两个平行布置的引导滑杆（106），两个引导滑杆（106）的顶端固定有顶部横梁（107）。
5.根据权利要求4所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：顶部横梁（107）上旋转安装有线盘（113），线盘（113）上缠绕设置有线绳（114），顶部横梁（107）上还固定有拉扯电机支架（108），拉扯电机支架（108）上固定有拉扯电机（109），拉扯电机（109）的输出轴上固定有花键轴（115），花键轴（115）与线盘（113）固定配合，其中花键轴（115）上通过花键滑动的方式套设有旋转限制盘（110），顶部横梁（107）上与旋转限制盘（110）同轴的位置固定有静止限制盘（112），静止限制盘（112）与旋转限制盘（110）之间设置有能够相互卡接的齿形，在静止限制盘（112）与旋转限制盘（110）之间或旋转限制盘（110）与拉扯电机支架（108）之间旋转安装有套设在花键轴（115）上的弹性组件（111），在拉扯电机支架（108）或顶部横梁（107）内嵌设有与旋转限制盘（110）磁力配合的电磁线圈。
6.根据权利要求5所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：两个引导滑杆（106）上还滑动安装有拉板架（117），拉板架（117）上旋转安装有多根花键套管轴（125），每根花键套管轴（125）的圆周表面上均采用花键的方式滑动安装有摆动齿轮（123），密封盖板（105）上表面的中部固定有扣盖板（118），其中所有的摆动齿轮（123）旋转配设在扣盖板（118）与密封盖板（105）之间，扣盖板（118）与密封盖板（105）之间的圆心位置还旋转安装有与所有的摆动齿轮（123）均啮合的摆动齿盘（122）。
7.根据权利要求6所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：摆动齿盘（122）上还固定有摆臂杆（121），摆臂杆（121）位于扣盖板（118）的上方，扣盖板（118）上还固定有弧形滑轨（120），扣盖板（118）上还活动安装有调节电缸（119），调节电缸（119）伸缩杆的端部与摆臂杆（121）之间活动连接，摆臂杆（121）与调节电缸（119）的活动连接处与弧形滑轨（120）滑动配合，用于带动摆动齿盘（122）旋转。
8.根据权利要求7所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：线绳（114）的一端与拉板架（117）固定，每个引导滑杆（106）上均环绕设置有拉簧（116），拉簧（116）的两端分别与拉板架（117）和扣盖板（118）固定。
9.根据权利要求8所述的一种铸件的表面处理自动化系统，其特征在于：密封盖板（105）的下表面固定有多个圆形阵列布置的引导板（129），其中第一夹持板（127）和第二夹持板（128）设置在相邻两个引导板（129）的中间位置，中间支撑隔板（101）固定在外壳（102）的内部。
