本技术涉及真空镀膜设备，尤其涉及一种真空镀膜室及真空镀膜设备。
背景技术：
1、真空镀膜室是真空镀膜设备进行镀膜工艺的关键腔室，基板挂载于真空镀膜室内的镀膜架上进行镀膜。真空镀膜过程中，基板的镀膜表面需要保持洁净，一旦有灰尘或颗粒掉落在基板的镀膜表面，会严重影响基板的镀膜品质。
2、现有技术中，经常通过提高基板的搬运效率和优化搬送机构的搬送动作等方式来减小基板镀膜表面被颗粒污染的概率。但是由于真空镀膜室内的镀膜架在镀膜过程中转动也会产生颗粒，这些颗粒可能掉落在正在镀膜的基板镀膜表面，进而影响基板的镀膜品质。
技术实现思路
1、本实用新型的目的在于提出一种真空镀膜室及真空镀膜设备，以避免真空镀膜室内的镀膜架转动产生的颗粒掉落在基板的镀膜表面，进一步地提高基板的镀膜品质。
2、为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
3、真空镀膜室，其包括：
4、镀膜腔；
5、镀膜架，设于所述镀膜腔内，所述镀膜架的周向设置有多个挂载位，所述挂载位用于挂设基板，多个所述基板的镀膜表面朝外一一对应地挂设于多个所述挂载位后能将所述镀膜架的周向围合；
6、防护体，包括顶部防护体和底部防护体，所述顶部防护体设于所述镀膜腔的顶壁和所述镀膜架之间，用于围合所述镀膜架和所述镀膜腔的顶壁之间的空间；所述底部防护体设于所述镀膜腔的底壁和所述镀膜架之间，用于围合所述镀膜架和所述镀膜腔的底壁之间的空间；所述顶部防护体、所述镀膜架周向的基板和所述底部防护体将所述镀膜腔分隔为内外两个空间，外部空间为镀膜空间，内部空间为非镀膜空间。
7、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述顶部防护体包括顶壁连接体和第一周向体，所述顶壁连接体与所述镀膜腔的顶壁可拆卸连接，且所述顶壁连接体的外缘凸出所述镀膜架的周向设置；所述第一周向体的一端与所述顶壁连接体连接，另一端插入所述镀膜架的顶端；
8、所述底部防护体包括底壁连接体和第二周向体，所述底壁连接体与所述镀膜腔的底壁可拆卸连接，且所述底壁连接体的外缘凸出所述镀膜架的周向设置，所述第二周向体的一端与所述底壁连接体连接，另一端插入所述镀膜架的底端。
9、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述顶壁连接体上设置有安装腔，所述安装腔贯通所述顶壁连接体设置，所述真空镀膜室还包括第一驱动件，所述第一驱动件设于所述安装腔内，所述第一驱动件与所述镀膜架的中心轴连接，用于驱动所述镀膜架转动。
10、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述顶壁连接体包括多个第一环形板，多个所述第一环形板首尾拼接形成所述顶壁连接体；
11、所述底壁连接体包括多个第二环形板，多个所述第二环形板首尾拼接形成所述底壁连接体。
12、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述第一环形板通过第一快拆结构与所述镀膜腔的顶壁连接；
13、所述第二环形板通过第二快拆结构与所述镀膜腔的底壁连接。
14、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述第一快拆结构和所述第二快拆结构均为快锁销。
15、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述第一周向体包括多个第一弧形板，多个所述第一弧形板首尾拼接形成所述第一周向体；
16、所述第二周向体包括多个第二弧形板，多个所述第二弧形板首尾拼接形成所述第二周向体。
17、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述第一环形板靠近所述第一弧形板的一侧设置有第一弧形槽，所述第一弧形板挂于所述第一弧形槽；
18、所述第二环形板靠近所述第二弧形板的一侧设置有第二弧形槽，所述第二弧形板插接于所述第二弧形槽。
19、作为所述真空镀膜室的一个可选方案，所述防护体由不锈钢材质制成；
20、和/或，所述防护体的表面粗糙度ra＞3微米。
21、真空镀膜设备，其包括如以上任一方案所述的真空镀膜室。
22、本实用新型的有益效果：
23、本实用新型提供的真空镀膜室，将基板的镀膜表面朝外挂设于镀膜腔内的镀膜架的挂载位，多个挂载位沿镀膜架的周向设置，使得多个挂载位挂满基板后能将镀膜架的周向围合。通过设置防护体，防护体包括顶部防护体和底部防护体，顶部防护体设于镀膜腔的顶壁和镀膜架之间，用于围合镀膜架和镀膜腔的顶壁之间的空间。底部防护体设于镀膜腔的底壁和镀膜架之间，用于围合镀膜架和镀膜腔的底壁之间的空间。顶部防护体、镀膜架周向的基板和底部防护体将镀膜腔分隔为内外两个空间，外部空间为镀膜空间，内部空间为非镀膜空间，镀膜架位于非镀膜空间，镀膜源设于镀膜空间内，对基板的镀膜表面进行镀膜。在镀膜架转动带动周向的基板镀膜时，非镀膜空间内产生的颗粒不易进入镀膜空间，从而降低了非镀膜空间内产生的颗粒掉落在基板的镀膜表面的概率，进一步地提高了基板的镀膜品质。
24、本实用新型提供的真空镀膜设备，包括上述的真空镀膜室，基板在上述的真空镀膜室内镀膜时，减少了镀膜过程中基板的镀膜表面的颗粒附着，进一步地提高了基板的镀膜品质。
1.真空镀膜室，其特征在于，包括：
2.根据权利要求1所述的真空镀膜室，其特征在于，所述顶部防护体(4)包括顶壁连接体(41)和第一周向体(42)，所述顶壁连接体(41)与所述镀膜腔的顶壁可拆卸连接，且所述顶壁连接体(41)的外缘凸出所述镀膜架(1)的周向设置；所述第一周向体(42)的一端与所述顶壁连接体(41)连接，另一端插入所述镀膜架(1)的顶端；
3.根据权利要求2所述的真空镀膜室，其特征在于，所述顶壁连接体(41)上设置有安装腔(412)，所述安装腔(412)贯通所述顶壁连接体(41)设置，所述真空镀膜室还包括第一驱动件(3)，所述第一驱动件(3)设于所述安装腔(412)内，所述第一驱动件(3)与所述镀膜架(1)的中心轴连接，用于驱动所述镀膜架(1)转动。
4.根据权利要求2所述的真空镀膜室，其特征在于，所述顶壁连接体(41)包括多个第一环形板(411)，多个所述第一环形板(411)首尾拼接形成所述顶壁连接体(41)；
5.根据权利要求4所述的真空镀膜室，其特征在于，所述第一环形板(411)通过第一快拆结构与所述镀膜腔的顶壁连接；
6.根据权利要求5所述的真空镀膜室，其特征在于，所述第一快拆结构和所述第二快拆结构均为快锁销。
7.根据权利要求4所述的真空镀膜室，其特征在于，所述第一周向体(42)包括多个第一弧形板(421)，多个所述第一弧形板(421)首尾拼接形成所述第一周向体(42)；
8.根据权利要求7所述的真空镀膜室，其特征在于，所述第一环形板(411)靠近所述第一弧形板(421)的一侧设置有第一弧形槽，所述第一弧形板(421)挂于所述第一弧形槽；
9.根据权利要求1-8任一项所述的真空镀膜室，其特征在于，所述防护体由不锈钢材质制成；
10.真空镀膜设备，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的真空镀膜室。
