铈系研磨材料、研磨液、研磨液的制造方法和玻璃研磨方法与流程

专利2026-08-26  15


本发明涉及在被用于液晶面板、硬盘、特定频率截止用滤波器等的玻璃基板、光学透镜用玻璃基板等玻璃材料的研磨中使用的铈系研磨材料、研磨液、研磨液的制造方法和玻璃研磨方法。


背景技术:

1、玻璃材料被用于各种各样的用途,根据其用途有时需要表面研磨。特别是用于液晶面板、硬盘、特定频率截止用滤波器等的玻璃基板、光学透镜用玻璃基板等玻璃材料,需要高平滑度且高效率的表面研磨加工。

2、在要求这样的优异的研磨性能的玻璃材料的表面研磨加工中,较多地使用例如如专利文献1、专利文献2所记载的铈系研磨材料。

3、在先技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:国际公开第2005/042661号

6、专利文献2:国际公开第2002/031079号


技术实现思路

1、作为玻璃研磨材料,通常使用铈系研磨材料,含有镧的铈系研磨材料被较多地使用。铈系研磨材料一般以用水分散的浆料的形式使用。该浆料为中性至碱性,根据使用者的不同而对使用者的皮肤给予刺激,存在观察到皮肤粗糙、皮肤炎等症状的问题。因此,需求皮肤刺激性更低的操作性优异的铈系研磨材料。

2、本发明是为了解决上述那样的课题而完成的,其课题是提供抑制了皮肤粗糙以及皮肤炎的发生的铈系研磨材料、研磨液、研磨液的制造方法和玻璃研磨方法。

3、本发明基于以下发现:在含有含镧和铈的混合稀土类研磨材料粒子的铈系研磨材料中,通过全部稀土元素的氧化物换算含量(treo)中的上述铈的氧化物换算含量为55.0质量%以上,包含上述铈系研磨材料且采用规定的方法得到的混合液中的镧溶解量为40mg/l以下,能够减少在附着于皮肤时发生的皮肤粗糙、皮肤炎。

4、即,本发明提供以下的[1]~[16]。

5、[1]一种铈系研磨材料,是含有混合稀土类研磨材料粒子的铈系研磨材料,所述混合稀土类研磨材料粒子包含镧和铈,

6、全部稀土元素的氧化物换算含量(treo)中的所述铈的氧化物换算含量为55.0质量%以上,

7、向100ml聚乙烯容器中装入所述铈系研磨材料10g和纯水40g,并且作为珠子装入粒径为1mm的氧化锆珠130g,使用球磨机台架,以容器转速210rpm进行30分钟的所述铈系研磨材料的粉碎处理,由此得到的混合液中的镧溶解量为40mg/l以下。

8、[2]根据上述[1]所述的铈系研磨材料,还含有镧溶解抑制剂。

9、[3]根据上述[1]所述的铈系研磨材料,其为含有第一剂和第二剂的双剂型,所述第一剂含有所述混合稀土类研磨材料粒子,所述第二剂含有镧溶解抑制剂。

10、[4]根据上述[1]所述的铈系研磨材料,含有0.1~10质量%的氟原子。

11、[5]根据上述[1]所述的铈系研磨材料,所述treo中的所述镧的氧化物换算含量为0.01~45.0质量%。

12、[6]根据上述[2]或[3]所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂为选自碱金属的碳酸盐、碱金属的磷酸盐、碱金属的氢氧化物盐、碱金属的硫酸盐、碱金属的硝酸盐、碱金属的有机酸盐、碱土金属的碳酸盐、碱土金属的磷酸盐、碱土金属的氢氧化物盐、碱土金属的硫酸盐、碱土金属的硝酸盐、碱土金属的有机酸盐、铵的碳酸盐、铵的磷酸盐、铵的氢氧化物盐、铵的硫酸盐、铵的硝酸盐和铵的有机酸盐中的1种以上的物质。

13、[7]根据上述[6]所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂为选自碱土金属的碳酸盐、碱土金属的磷酸盐、碱土金属的有机酸盐和碱金属的碳酸盐中的1种以上的物质。

14、[8]根据上述[2]或[3]所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂的分子量为300以下。

15、[9]根据上述[2]或[3]所述的铈系研磨材料,包含相对于所述混合稀土类研磨材料粒子100质量份为0.001~0.9质量份的所述镧溶解抑制剂。

16、[10]一种研磨液,含有上述[1]所述的铈系研磨材料和选自水和水溶性有机溶剂中的1种以上的物质。

17、[11]一种研磨液的制造方法,是制造上述[10]所述的研磨液的方法,包含将所述铈系研磨材料和选自所述水和所述水溶性有机溶剂中的1种以上的物质进行混合来浆料化的工序(i)。

18、[12]根据上述[11]所述的研磨液的制造方法,所述铈系研磨材料含有所述镧溶解抑制剂。

19、[13]一种研磨液的制造方法,是制造上述[10]所述的研磨液的方法,包含将所述铈系研磨材料、所述镧溶解抑制剂和选自所述水和所述水溶性有机溶剂中的1种以上的物质进行混合来浆料化的工序(ii)。

20、[14]一种研磨液的制造方法,是制造上述[10]所述的研磨液的方法,包含:

21、将所述铈系研磨材料和选自所述水和所述水溶性有机溶剂中的1种以上的物质进行混合来浆料化的工序(iii);和

22、向在所述工序(iii)中得到的浆料中添加混合所述镧溶解抑制剂的工序(iv)。

23、[15]根据上述[14]所述的研磨液的制造方法,所述铈系研磨材料不含有所述镧溶解抑制剂。

24、[16]一种玻璃研磨方法,使用上述[10]所述的研磨液进行研磨。

25、根据本发明,能够提供抑制了皮肤粗糙以及皮肤炎的发生的铈系研磨材料、研磨液、研磨液的制造方法和玻璃研磨方法。



技术特征:

1.一种铈系研磨材料,是含有混合稀土类研磨材料粒子的铈系研磨材料,所述混合稀土类研磨材料粒子包含镧和铈,

2.根据权利要求1所述的铈系研磨材料,还含有镧溶解抑制剂。

3.根据权利要求1所述的铈系研磨材料,其为含有第一剂和第二剂的双剂型,所述第一剂含有所述混合稀土类研磨材料粒子,所述第二剂含有镧溶解抑制剂。

4.根据权利要求1所述的铈系研磨材料,含有0.1~10质量%的氟原子。

5.根据权利要求1所述的铈系研磨材料,所述treo中的所述镧的氧化物换算含量为0.01~45.0质量%。

6.根据权利要求2或3所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂为选自碱金属的碳酸盐、碱金属的磷酸盐、碱金属的氢氧化物盐、碱金属的硫酸盐、碱金属的硝酸盐、碱金属的有机酸盐、碱土金属的碳酸盐、碱土金属的磷酸盐、碱土金属的氢氧化物盐、碱土金属的硫酸盐、碱土金属的硝酸盐、碱土金属的有机酸盐、铵的碳酸盐、铵的磷酸盐、铵的氢氧化物盐、铵的硫酸盐、铵的硝酸盐和铵的有机酸盐中的1种以上的物质。

7.根据权利要求6所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂为选自碱土金属的碳酸盐、碱土金属的磷酸盐、碱土金属的有机酸盐和碱金属的碳酸盐中的1种以上的物质。

8.根据权利要求2或3所述的铈系研磨材料,所述镧溶解抑制剂的分子量为300以下。

9.根据权利要求2或3所述的铈系研磨材料,包含相对于所述混合稀土类研磨材料粒子100质量份为0.001~0.9质量份的所述镧溶解抑制剂。

10.一种研磨液,含有权利要求1所述的铈系研磨材料和选自水和水溶性有机溶剂中的1种以上的物质。

11.一种研磨液的制造方法,是制造权利要求10所述的研磨液的方法,包含将所述铈系研磨材料和选自所述水和所述水溶性有机溶剂中的1种以上的物质进行混合来浆料化的工序i。

12.根据权利要求11所述的研磨液的制造方法,所述铈系研磨材料含有所述镧溶解抑制剂。

13.一种研磨液的制造方法,是制造权利要求10所述的研磨液的方法,包含将所述铈系研磨材料、所述镧溶解抑制剂和选自所述水和所述水溶性有机溶剂中的1种以上的物质进行混合来浆料化的工序ii。

14.一种研磨液的制造方法,是制造权利要求10所述的研磨液的方法,包含:

15.根据权利要求14所述的研磨液的制造方法,所述铈系研磨材料不含有所述镧溶解抑制剂。

16.一种玻璃研磨方法,使用权利要求10所述的研磨液进行研磨。


技术总结
一种铈系研磨材料,是含有混合稀土类研磨材料粒子的铈系研磨材料,所述混合稀土类研磨材料粒子包含镧和铈,全部稀土元素的氧化物换算含量(TREO)中的所述铈的氧化物换算含量为55.0质量%以上,向100mL聚乙烯容器中装入作为浆料成分的所述铈系研磨材料10g以及纯水40g,并且作为珠子装入粒径为1mm的氧化锆珠130g,使用球磨机台架,以容器转速210rpm进行30分钟的所述铈系研磨材料的粉碎处理,由此得到的混合液中的镧溶解量为40mg/L以下。

技术研发人员:山野博,增田知之,深山政辉
受保护的技术使用者:株式会社力森诺科
技术研发日:
技术公布日:2024/12/17
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