本技术涉及光学镀膜的，具体涉及一种双面匀胶铬版。
背景技术：
1、众所周知，随着技术的不断创新，光学配件的制作不断趋向精密化，对制作工艺的要求也随之增加。由原来的激光等加工方式，逐渐转为微纳加工；常用的方式为：先对光学玻璃基板进行镀膜，然后涂感光胶以通过光刻方式得到对应的图形。但是，现有的匀胶铬版具有以下缺陷：只有一面是蚀刻有图形的，因此当需要两个图形的时候，则需要两个匀胶铬版，导致成本增加，增加了光学设计的验证次数。
2、因此，亟需一种双面匀胶铬版来解决上述问题。
技术实现思路
1、本项实用新型是针对现在的技术不足，提供一种双面匀胶铬版。
2、本实用新型为实现上述目的所采用的技术方案是：
3、一种双面匀胶铬版，包括由上至下依次布置的第一防凹陷层、第一铬氮氧化层、第一减反射层、玻璃基板层、第二减反射层、第二铬氮氧化层以及第二防凹陷层，所述第一防凹陷层的厚度和所述第二防凹陷层的厚度均为8-15nm。
4、作进一步改进，所述第一铬氮氧化层的厚度和所述第二铬氮氧化层的厚度均为45-50nm。
5、作进一步改进，所述第一减反射层的厚度和所述第二减反射层的厚度均为30-35nm。
6、作进一步改进，所述玻璃基板层的透光率大于85％，折射率为1.5-1.7，密度大于等于2.5g每立方厘米。
7、作进一步改进，所述玻璃基板层的尺寸为3-8寸，所述玻璃基板层的双面平整度小于等于10微米。
8、本实用新型的有益效果：本实用新型的一种双面匀胶铬版，包括由上至下依次布置的第一防凹陷层、第一铬氮氧化层、第一减反射层、玻璃基板层、第二减反射层、第二铬氮氧化层以及第二防凹陷层，第一防凹陷层的厚度和第二防凹陷层的厚度均为8-15nm。故本实用新型通过以上结构，可以实现在一个双面匀胶铬版上实现双面显示效果，可以节省成本且减少光学设计的验证次数。
9、下面结合附图与具体实施方式，对本实用新型进一步说明。
1.一种双面匀胶铬版，其特征在于：包括由上至下依次布置的第一防凹陷层、第一铬氮氧化层、第一减反射层、玻璃基板层、第二减反射层、第二铬氮氧化层以及第二防凹陷层，所述第一防凹陷层的厚度和所述第二防凹陷层的厚度均为8-15nm。
2.根据权利要求1所述的双面匀胶铬版，其特征在于：所述第一铬氮氧化层的厚度和所述第二铬氮氧化层的厚度均为45-50nm。
3.根据权利要求2所述的双面匀胶铬版，其特征在于：所述第一减反射层的厚度和所述第二减反射层的厚度均为30-35nm。
4.根据权利要求3所述的双面匀胶铬版，其特征在于：所述玻璃基板层的透光率大于85％，折射率为1.5-1.7，密度大于等于2.5g每立方厘米。
5.根据权利要求4所述的双面匀胶铬版，其特征在于：所述玻璃基板层的尺寸为3-8寸，所述玻璃基板层的双面平整度小于等于10微米。
