本发明涉及冲洗设备领域，具体涉及用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构以及冲洗装置。
背景技术：
1、在半导体cmp减薄机领域常用到多孔陶瓷真空吸盘，如图1和图2所示，多孔陶瓷真空吸盘1包括多孔陶瓷盘12和基体11(基体11可以为氧化铝)，基体11与cmp设备对接安装，其底部的通气孔111直通多孔陶瓷盘12，晶圆放置在多孔陶瓷盘12的端面，通气孔111启动负压，由于多孔陶瓷盘12质地疏松均匀，它可以使负压均匀的释放，从而吸附住晶圆片。
2、在使用一定时间后需要对多孔陶瓷真空吸盘进行冲洗，将多孔陶瓷盘内的杂质清洗出去。现有清洗时，高压清洗介质整体穿过多孔陶瓷盘，当多孔陶瓷盘中有通道堵塞较为严重时，堵塞较为严重的通道很难清洗干净，因为高压水汽更易通过不堵塞的通道排出，因此整体清洗效果一般。
技术实现思路
1、本发明针对上述问题，提出了用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构以及冲洗装置。
2、本发明采取的技术方案如下：
3、一种用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，多孔陶瓷真空吸盘包括基体以及固定在基体上的多孔陶瓷盘，所述多孔陶瓷盘的第一端面突出所述氧化铝陶瓷基体，冲洗机构包括：
4、支撑板，具有安装孔；
5、冲洗件，具有位于所述安装孔的对接腔、与所述对接腔连通的管道以及设置在管道上的高压泵，所述对接腔的开口用于与基体背向所述第一端面的一端密封配合；
6、压紧组件，与所述支撑板固定，用于压紧所述基体，使多孔陶瓷真空吸盘与支撑板相对固定住；
7、压盘组件，位于所述冲洗件的正上方，所述压盘组件具有压盘、活动条和驱动元件，所述压盘具有径向设置的条形缺口，所述活动条滑动设置在压盘上，所述活动条的下端面与压盘的下端面齐平，所述活动条上具有贯穿孔，所述驱动元件用于驱动活动条移动，使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向往复移动；
8、旋转元件，位于所述压盘组件的上方，用于驱动所述压盘组件转动；
9、伸缩元件，位于所述旋转元件的上方，用于驱动所述旋转元件和压盘组件上下移动，使压盘和活动条压紧在所述多孔陶瓷盘的第一端面上。
10、本技术的冲洗机构工作时通过压紧组件使基体与冲洗件的对接腔密封连接，这样通过管道的冲洗介质在高压泵的作用下能够对多孔陶瓷盘进行冲洗；本技术压盘用于压在多孔陶瓷盘的第一端面(上端面)上，这样在进行冲洗时，因为压盘的阻挡，冲洗介质只能从活动条的贯穿孔中喷出，因为贯穿孔相对整个多孔陶瓷盘的面积较小，能够更好的将与贯穿孔对应的通道内的杂质冲洗出来；通过驱动元件能够带动活动条移动，进而使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向往复移动，这样能够沿径向完成一次清洗，然后通过旋转元件转动设定角度，再使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向移动至少一次，能够完成另一区域的清洗，当压盘转动360°后能够完成整个清洗。本技术这种清洗方式清洗效果好，特别能够对多孔陶瓷盘堵塞严重的通道进行疏通。
11、实际使用时，一种具体的冲洗方法为：
12、将多孔陶瓷真空吸盘放置在支撑板上，使基体背向所述第一端面的一端与对接腔相对齐，然后通过压紧组件使多孔陶瓷真空吸盘与支撑板相对固定住；
13、进行初步冲洗，管道输入冲洗介质(水、水汽混合物或清洗液等)在高压泵加压后进入对接腔，通过基体后进入多孔陶瓷盘，并从多孔陶瓷盘的第一端面排出；
14、伸缩元件带动旋转元件和压盘组件下移，使压盘和活动条压紧在多孔陶瓷盘的第一端面上；
15、逐点清洗，管道输入冲洗介质在高压泵加压后进入对接腔，通过基体后进入多孔陶瓷盘后从活动条的贯穿孔中喷出，驱动元件带动活动条移动，使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向移动，完成至少一次径向清洗，然后通过旋转元件转动设定角度，再使贯穿孔沿条形缺口的长度方向移动至少一次，完成后重复上述操作直至盘转动360°。
16、于本发明其中一实施例中，所述压紧组件包括：
17、压板，压板具有弧形压部，所述弧形压部用于压紧所述基体的上端面，当压板与多孔陶瓷真空吸盘配合时，所述弧形压部的上端面低于多孔陶瓷盘的第一端面，或者是，弧形压部的上端面与多孔陶瓷盘的第一端面齐平；
18、紧固件，用于将压板与所述支撑板固定住。
19、弧形压部的设计能够增加与基体的接触面积，可以将基体更好的固定住。弧形压部的上端面低于多孔陶瓷盘的第一端面，或者是，弧形压部的上端面与多孔陶瓷盘的第一端面齐平，这样设置能够防止在清洗时，活动条与弧形压部干涉。
20、于本发明其中一实施例中，所述压板具有沉头孔，所述紧固件为内六角螺钉，压板通过穿过沉头孔的内六角螺钉与所述支撑板固定。
21、这样设置能够防止在清洗时，活动条与紧固件干涉。
22、于本发明其中一实施例中，所述多孔陶瓷盘和基体形成圆形台阶，所述弧形压部与所述圆形台阶相适配。
23、弧形压部和圆形台阶的配合形式，方便快速定位，安装更快捷。
24、于本发明其中一实施例中，所述条形缺口穿过压盘的中心。
25、于本发明其中一实施例中，所述条形缺口包括两个相对设置的侧壁以及连接两个侧壁的连接壁，所述压盘还具有径向设置的条形的滑槽，所述滑槽的一端延伸至压盘的边沿，另一端延伸至条形缺口的连接壁上，所述滑槽的方向与条形缺口的长度方向相同；所述活动条的第一端位于所述条形缺口，所述贯穿孔位于条形缺口处，所述活动条的第二端穿过所述滑槽位于所述压盘的外侧；
26、所述活动条远离滑槽的部分具有齿条结构；
27、所述驱动元件包括与压盘相对固定的驱动电机以及受所述驱动电机驱动的驱动齿轮，所述驱动齿轮与所述齿条结构啮合，驱动电机转动时能够带动活动条往复移动。
28、于本发明其中一实施例中，所述条形缺口的侧壁具有防脱槽，所述活动条的侧壁具有与所述防脱槽配合的防脱滑块。
29、于本发明其中一实施例中，所述旋转元件为电机组件。
30、于本发明其中一实施例中，所述伸缩元件为电动推杆或气缸。
31、本技术还公开了一种冲洗装置，包括上文所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构。
32、本发明的有益效果是：本技术的冲洗机构工作时通过压紧组件使基体与冲洗件的对接腔密封连接，这样通过管道的冲洗介质在高压泵的作用下能够对多孔陶瓷盘进行冲洗；本技术压盘用于压在多孔陶瓷盘的第一端面(上端面)上，这样在进行冲洗时，因为压盘的阻挡，冲洗介质只能从活动条的贯穿孔中喷出，因为贯穿孔相对整个多孔陶瓷盘的面积较小，能够更好的将与贯穿孔对应的通道内的杂质冲洗出来；通过驱动元件能够带动活动条移动，进而使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向往复移动，这样能够沿径向完成一次清洗，然后通过旋转元件转动设定角度，再使贯穿孔能够沿条形缺口的长度方向移动至少一次，能够完成另一区域的清洗，当压盘转动360°后能够完成整个清洗。本技术这种清洗方式清洗效果好，特别能够对多孔陶瓷盘堵塞严重的通道进行疏通。
1.一种用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，多孔陶瓷真空吸盘包括基体以及固定在基体上的多孔陶瓷盘，所述多孔陶瓷盘的第一端面突出所述氧化铝陶瓷基体，冲洗机构包括：
2.如权利要求1所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述压紧组件包括：
3.如权利要求2所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述压板具有沉头孔，所述紧固件为内六角螺钉，压板通过穿过沉头孔的内六角螺钉与所述支撑板固定。
4.如权利要求2所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述多孔陶瓷盘和基体形成圆形台阶，所述弧形压部与所述圆形台阶相适配。
5.如权利要求1所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述条形缺口穿过压盘的中心。
6.如权利要求5所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述条形缺口包括两个相对设置的侧壁以及连接两个侧壁的连接壁，所述压盘还具有径向设置的条形的滑槽，所述滑槽的一端延伸至压盘的边沿，另一端延伸至条形缺口的连接壁上，所述滑槽的方向与条形缺口的长度方向相同；所述活动条的第一端位于所述条形缺口，所述贯穿孔位于条形缺口处，所述活动条的第二端穿过所述滑槽位于所述压盘的外侧；
7.如权利要求6所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述条形缺口的侧壁具有防脱槽，所述活动条的侧壁具有与所述防脱槽配合的防脱滑块。
8.如权利要求1所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述旋转元件为电机组件。
9.如权利要求1所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构，其特征在于，所述伸缩元件为电动推杆或气缸。
10.一种冲洗装置，其特征在于，包括权利要求1～9任意一项所述的用于多孔陶瓷真空吸盘的冲洗机构。
