一种控制基坑变形的构造的制作方法

专利2022-11-21  105


本实用新型涉及一种控制基坑变形的构造,属于工业与民用建筑工程技术领域。



背景技术:

随着经济的发展,在大中型城市建设中,建设用地越来越紧张,土地成本越来越高,近而带来高层、超高层建筑的发展,随之而来的就是地下空间的利用和发展,基坑工程深而大的特点也凸显出来。为控制基坑变形对地下、地上建构筑的影响,需要加大基坑围护体系的抗变形能力,这无疑增加了施工成本。



技术实现要素:

本实用新型的目的在于提供一种控制基坑变形的构造,既满足基坑施工安全变形控制的要求,避免基坑变形较大对周边环境的影响,又有利于降低工程造价。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:一种控制基坑变形的构造,包括沿着基坑周边设置的围护体,在围护体内侧设置有内支撑,在基坑内且垂直于基坑长边方向设置有连续的地中壁,所述地中壁是由下部的配筋地下连续墙和上部的素混凝土地下连续墙组成。

进一步,所述围护体是在地下结构外边线外侧1~1.5m处设置的地下连续墙。

进一步,所述内支撑是围护体内侧设置的对撑或斜撑。

由于采用了上述技术方案,本实用新型的具有以下优点:本实用新型利用地中壁控制基坑变形,解决深基坑变形对周边环境的破坏,既满足基坑施工安全要求,避免基坑变形较大对周边环境的影响,又有利于降低工程造价。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是地中壁的截面结构示意图;

图3是地连墙横向钢筋、h型钢以及槽钢支撑的连接结构示意图;

图4是图3的a-a截面图;

图5是图3的b-b截面图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。

本实用新型的实施例:请参阅图1,一种控制基坑变形的构造,包括沿着基坑周边设置的围护体1,在围护体1内侧设置有内支撑2,在基坑内且垂直于基坑长边方向设置有连续的地中壁3,所述地中壁3是由下部的配筋地下连续墙4和上部的素混凝土地下连续墙5组成。采用内支撑2与围护体1共同抵抗土体侧压力,通过地中壁3控制基坑长边变形,减少基坑深层土体位移。所述围护体1是在地下结构外边线外侧1~1.5m处设置的地下连续墙。所述内支撑2是围护体1内侧设置的对撑或斜撑。

参见图2~5,控制基坑变形施工时,可采用以下步骤进行:

步骤一、根据设计图纸沿着基坑周边设置的围护体1,再施工地中壁3,所述所述地中壁3是由下部的配筋地下连续墙4和上部的素混凝土地下连续墙5组成,地中壁3采用成槽机分幅进行成槽,并在槽内首开幅两侧设置h型钢7,在两侧h型钢7之间焊接地连墙横向钢筋6,并使h型钢7顶标高与素混凝土地下连续墙5顶标高一致;

步骤二、吊放钢筋笼,浇筑混凝土,逐步完成配筋地下连续墙4和素混凝土地下连续墙5施工,使配筋地下连续墙4和素混凝土地下连续墙5组成的地中壁3与围护体1两侧长边相交;

步骤三、待围护体1和地中壁3达到设计强度后,分层开挖基坑内的土方,并在围护体1内侧设置有内支撑2;土方分层开挖过程中,边开挖土方、边破除素混凝土地下连续墙5,通过配筋地下连续墙4控制深层土体变形,地下结构施工完毕后,拆除内支撑2,并回填基坑肥槽,直至基坑变形受控。

为确保素混凝土成幅且h型钢7不变形,在两侧h型钢7之间焊接槽钢支撑8,同时在h型钢7两侧设置绕流片9。

综上所述,本实用新型利用地中壁3控制基坑变形,解决深基坑变形对周边环境的破坏,既满足基坑施工安全要求,避免基坑变形较大对周边环境的影响,又有利于降低工程造价。


技术特征:

1.一种控制基坑变形的构造,包括沿着基坑周边设置的围护体(1),其特征在于:在围护体(1)内侧设置有内支撑(2),在基坑内且垂直于基坑长边方向设置有连续的地中壁(3),所述地中壁(3)是由下部的配筋地下连续墙(4)和上部的素混凝土地下连续墙(5)组成。

2.根据权利要求1所述的控制基坑变形的构造,其特征在于:所述围护体(1)是在地下结构外边线外侧1~1.5m处设置的地下连续墙。

3.根据权利要求1所述的控制基坑变形的构造,其特征在于:所述内支撑(2)是围护体(1)内侧设置的对撑或斜撑。

技术总结
本实用新型公开了一种控制基坑变形的构造,该构造包括沿着基坑周边设置的围护体,在围护体内侧设置有内支撑,在基坑内且垂直于基坑长边方向设置有连续的地中壁,所述地中壁是由下部的配筋地下连续墙和上部的素混凝土地下连续墙组成。本实用新型利用地中壁控制基坑变形,解决深基坑变形对周边环境的破坏,既满足基坑施工安全要求,避免基坑变形较大对周边环境的影响,又有利于降低工程造价。

技术研发人员:刘礼昕;苗恩新;柏志诚;翁翔;顾金雨
受保护的技术使用者:中国建筑第四工程局有限公司;中建四局第六建设有限公司
技术研发日:2020.10.12
技术公布日:2021.04.06

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